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申请/专利权人：成都海威华芯科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种TRACK机台工作环境参数控制装置，属于半导体制造领域，包括TRACK机台、温度控制单元、湿度控制单元、压力控制单元、气体发生单元、过滤单元以及用于检测TRACK机台内温度、湿度以及压力的工作环境监控器。温度控制单元设置在TRACK机台的顶部和底部，气体发生单元、过滤单元、湿度控制单元依次连接设置在所述TRACK机台的侧面，气体发生单元的前端与TRACK机台底部的温度控制单元的后端连接，TRACK机台底部的温度控制单元的前端连接有气体入口，湿度控制单元的后端与TRACK机台顶部的温度控制单元连接，压力控制单元设置在温度控制单元上。本实用新型可以实现有效控制并稳定制程参数。
主权项：1.一种TRACK机台工作环境参数控制装置，包括TRACK机台1，其特征在于，还包括温度控制单元2、湿度控制单元3、压力控制单元4、气体发生单元5、过滤单元6以及用于检测TRACK机台内温度、湿度以及压力的工作环境监控器7；所述温度控制单元2设置在所述TRACK机台1的顶部和底部，所述气体发生单元5、过滤单元6、湿度控制单元3依次连接设置在所述TRACK机台1的侧面，所述气体发生单元5的前端与所述TRACK机台1底部的温度控制单元2的后端连接，所述TRACK机台1底部的温度控制单元2的前端连接有气体入口，所述湿度控制单元3的后端与所述TRACK机台1顶部的温度控制单元2连接，所述压力控制单元4设置在所述温度控制单元2上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 成都海威华芯科技有限公司 一种TRACK机台工作环境参数控制装置
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