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化合物的制备方法以及化合物专利

发布时间:2023-04-07 06:08:11 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 化合物的制备方法以及化合物

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申请/专利权人:株式会社吴羽

申请日:2021-03-09

公开(公告)日:2023-04-04

公开(公告)号:CN115103839B

专利技术分类:..有杂原子,或有3个键连杂原子,其中最多有1个键连卤原子的碳原子,例如酯基或腈基,直接连在环碳原子上[2006.01]

专利摘要:本发明实现能够比现有的制备方法低价且以高收率制备唑衍生物的中间体的方法。通式Ⅲ的化合物的制备方法包括:使氰化合物作用于通式Ⅱ的酮衍生物,生成所述通式Ⅲ的化合物的工序;以及用碱性水溶液对在生成所述通式Ⅲ的化合物的工序中生成的所述通式Ⅲ的化合物进行清洗的清洗工序。

专利权项:1.一种制备方法,所述制备方法为通式Ⅲ所示的化合物的制备方法,其中,[化学式1] 式Ⅲ中,R3和R4分别独立地为氢、卤素、C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基、C1-C6-卤代烷基或C1-C6-卤代烷氧基;m为0~5的整数,m为2以上的情况下,多个R4任选地互不相同;n为0~4的整数,n为2以上的情况下,多个R3任选地互不相同,所述制备方法的特征在于,包括:使氰化合物作用于通式Ⅱ所示的酮衍生物,生成所述通式Ⅲ所示的化合物的工序;以及用碱性水溶液对在生成所述通式Ⅲ所示的化合物的工序中生成的所述通式Ⅲ所示的化合物进行清洗的清洗工序,所述氰化合物为氰化钾、氰化钠或丙酮氰醇,在选择丙酮氰醇作为所述氰化合物的情况下,在碱性化合物共存下进行生成所述通式Ⅲ所示的化合物的工序,[化学式2] 式Ⅱ中,X为卤素原子,R3、R4、m以及n分别与所述式Ⅲ中的R3、R4、m以及n相同。

百度查询: 株式会社吴羽 化合物的制备方法以及化合物

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