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申请/专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日：2022-12-19
公开（公告）日：2023-04-18
公开（公告）号：CN115976485A
专利技术分类：..连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法，动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，过渡腔包括至少三个检测元件，相邻两个检测元件限定出一过渡区间，过渡区间内设有一驱动机构，驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速度；控制模块与检测元件、驱动机构通信连接，用于在靠近镀膜腔的检测元件检测到前一基片远离镀膜腔的尾部离开时控制驱动机构加速至传动速度，且靠近镀膜腔的检测元件检测到后一基片靠近镀膜腔的头部开始离开时控制驱动机构降速至工艺速度；多次追赶的加速度和传动速度较小，降低基片碎片率，缩短相邻基片的间距，实现20mm以下间距连续镀膜，减少靶材浪费，提升镀膜工艺稳定性及产品良率。
专利权项：1.一种动态镀膜装置，用于连续镀膜多个基片，其特征在于，包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，其中：所述过渡腔包括沿所述第一方向排布的至少三个检测元件，其中，一个检测元件靠近所述缓冲腔设置,用于检测基片是否进入过渡腔中，剩余检测元件靠近所述镀膜腔设置，用于检测所述基片信息以便反馈追赶信号，且相邻两个所述检测元件限定出一过渡区间，所述过渡区间内设有驱动机构，所述驱动机构具有可调的传动速度，且所述传动速度不小于基片在镀膜腔中工艺速度，以便实现相邻基片之间的追赶操作；所述控制模块与所述检测元件、所述驱动机构通信连接，用于在靠近所述镀膜腔的检测元件检测到前一基片的尾部离开时，控制所述驱动机构加速至所述传动速度，且上述检测元件检测到后一基片的头部时，控制所述驱动机构降速至工艺速度；后一基片执行多次追赶行程后与前一基片之间固定间距在所述镀膜腔进行镀膜操作。
百度查询： 苏州迈为科技股份有限公司 动态镀膜装置及其动态镀膜方法
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