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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2019-05-22
公开（公告）日：2023-07-14
公开（公告）号：CN112166383B
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种设备包括：用于封闭物品支撑件的真空腔；物品支撑件被配置为支撑物品使得在物品支撑件与物品之间限定有体积，物品支撑件包括被配置为为物品提供支撑平面的多个支撑突起；用于向该体积提供流体使得流体在物品与物品支撑件之间提供热传递的管路；以及用于控制向该体积的流体供应的控制器，其中控制器被配置为控制流体供应单元基本上在物品达到稳定温度时开始去除流体。
专利权项：1.一种用在光刻系统中的设备，包括：真空室，用于封闭物品支撑件；所述物品支撑件被配置为支撑物品，使得在所述物品支撑件与所述物品之间限定有体积，所述物品支撑件包括被配置成为所述物品提供支撑平面的多个支撑突起；管路，用于向所述体积提供流体，使得所述流体在所述物品与所述物品支撑件之间提供热传递；以及控制器，用于控制向所述体积的流体供应，其中所述控制器被配置为控制流体供应单元，以基本上在所述物品达到稳定温度的时刻开始去除所述流体。
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