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申请/专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
摘要：提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括：等离子体腔室；处理腔室；等离子体源；和隔栅，包括多个孔，该隔栅被配置为允许中性自由基从等离子体腔室经由孔流入处理腔室，该隔栅包括：气体输送系统，限定了沿隔栅的圆周方向延伸的通道，气体输送系统包括将通道分成第一通道和第二通道的壁、沿隔栅的径向方向定位在第一通道中偏离圆周中心的入口、以及经由通道与入口处于流体连通的多个出口。气体输送系统被配置成从多个出口将气体注入到中性自由基。壁限定沿圆周方向间隔开的多个开口，以提供第一通道与第二通道之间的流体连通。气体经入口进入第一通道，继而从第一通道经多个开口进入第二通道，然后经多个出口离开第二通道。
主权项：1.一种等离子体处理装置，其包括：等离子体腔室；处理腔室，其包括可操作以支撑基材的基材支架；被配置为在所述等离子体腔室中产生等离子体的等离子体源；和隔栅，其将所述等离子体腔室与所述处理腔室隔开，所述隔栅包括多个孔，所述隔栅被配置为允许中性自由基从所述等离子体腔室经由所述孔流入所述处理腔室，所述隔栅包括：气体输送系统，其限定了沿所述隔栅的圆周方向延伸的通道，所述气体输送系统包括将所述通道分成第一通道和第二通道的壁、沿所述隔栅的径向方向定位在所述第一通道中偏离圆周中心的入口、以及经由所述通道与所述入口处于流体连通的多个出口，其中，所述气体输送系统被配置成从所述多个出口将气体注入到中性自由基，其中，所述壁限定沿所述圆周方向间隔开的多个开口，以提供所述第一通道与所述第二通道之间的流体连通，并且其中，所述气体经所述入口进入所述第一通道，继而从所述第一通道经所述多个开口进入所述第二通道，然后经所述多个出口离开所述第二通道。
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权利要求：
百度查询： 玛特森技术公司 北京屹唐半导体科技股份有限公司 隔栅中的等离子体后气体注入
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