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申请/专利权人：泉州师范学院
摘要：本发明公开了一种大面积图案化锡金属栅线电极的常温制备方法，聚甲基丙烯酸甲酯溶液的制备；锡金属电镀液的制备；硅烷偶联剂溶液的制备；将聚甲基丙烯酸甲酯溶液涂覆于大面积导电基底上，以得聚甲基丙烯酸甲酯膜；将聚甲基丙烯酸甲酯膜进行刻蚀，以得图案化的导电基底；将图案化的导电基底置于锡金属电镀液，以得锡金属栅线电极；将锡金属栅线电极置于硅烷偶联剂溶液，以得硅氧膜保护的锡金属栅线电极；锡金属栅线电极置于有机溶剂反应，以得大面积图案化锡金属栅线电极。采用上述技术方案后，本发明提供的大面积图案化锡金属栅线电极的常温制备方法所制备的产品面积大、电阻低、遮光面积小、性能稳定，并且可依据实际需要设计不同的图案。
主权项：1.一种大面积图案化锡金属栅线电极的常温制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1）、将聚甲基丙烯酸甲酯与有机溶剂进行充分混合反应，以制得聚甲基丙烯酸甲酯溶液；步骤2）、将氯化亚锡、焦磷酸钾、L-谷氨酸、氨水和水进行充分混合反应，以制得锡金属电镀液；步骤3）、将硅烷偶联剂、乙醇和水进行充分混合反应，并调节该溶液的PH值，以制得硅烷偶联剂溶液；所述硅烷偶联剂为四甲氧基硅烷、六甲氧基二硅氧烷、甲基三甲氧基硅烷和二3-三甲氧基甲硅烷基丙基胺中的一种或多种混合；步骤4）、将步骤1）制得的聚甲基丙烯酸甲酯溶液均匀涂覆于清洗过的大面积导电基底上，干燥并冷却至室温，以制得聚甲基丙烯酸甲酯膜；步骤5）、将步骤4）制得的聚甲基丙烯酸甲酯膜按照设计图案进行激光刻蚀，以制得图案化的导电基底；步骤6）、将步骤5）制得的图案化的导电基底置于步骤2）制备的锡金属电镀液中，采用电化学工作站三电极体系，银氯化银为参比电极，石墨片为对电极，刻蚀后的导电基底为工作电极，以制得锡金属栅线电极；步骤7）、将步骤6）制得的锡金属栅线电极置于步骤3）制备的硅烷偶联剂溶液中进行静置，反应后取出干燥，以制得硅氧膜保护的锡金属栅线电极；步骤8）、将步骤7）制得的硅氧膜保护的锡金属栅线电极置于有机溶剂中进行充分浸泡反应，后用有机溶剂进行多次清洗，以制得大面积图案化锡金属栅线电极。
全文数据：
权利要求：
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