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申请/专利权人：安立股份有限公司
申请日：2023-06-12
公开（公告）日：2023-12-15
公开（公告）号：CN117232782A
专利技术分类：.光学性质测试[2006.01]
专利摘要：本发明的目的在于提供一种SN比较小时或事件间隔较短时以高再现性来检测事件的损耗分析装置及损耗分析方法。本发明所涉及的损耗分析装置具备：OTDR波形获取部，获取被测量光纤的OTDR波形；及计算部，将以所述OTDR波形中所包含的各事件的起点的位置、所述各事件的起点的电平、所述各事件的损耗及所述各事件的反射衰减量为参数的事件模型函数非线性拟合于所述OTDR波形，并且计算所述位置、所述电平、所述损耗及所述反射衰减量。
专利权项：1.一种损耗分析装置，其具备：OTDR波形获取部，获取被测量光纤的OTDR波形；及计算部，将以所述OTDR波形中所包含的各事件的起点的位置、所述各事件的起点的电平、所述各事件的损耗及所述各事件的反射衰减量为参数的事件模型函数非线性拟合于所述OTDR波形，并且计算所述位置、所述电平、所述损耗及所述反射衰减量。
百度查询： 安立股份有限公司 损耗分析装置及损耗分析方法
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