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申请/专利权人：中国科学院西安光学精密机械研究所
摘要：本发明涉及哈达玛高光谱成像系统的校正方法，具体涉及一种哈达玛高光谱成像系统编码模板透过率误差校正方法，解决了哈达玛编码模板原始测量值与实际成像编码调制结果存在误差，从而使哈达玛高光谱成像系统探测精度较低的技术问题。本发明基于哈达玛高光谱成像系统特殊的成像机理，利用单色光入射，对比有无编码模板情况下探测器所获数据，进而完成对编码模板透过部分及遮挡部分实际透过率的测量，根据测量值完成对编码模板透过率误差的校正，不仅能实现哈达玛高光谱成像系统编码模板透过率误差的测量，还可根据测量结果对解码矩阵进行修正，提高系统光谱探测准确度，可进一步提高系统的光谱探测能力。
主权项：1.一种哈达玛高光谱成像系统编码模板透过率误差校正方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、取出哈达玛高光谱成像系统中的编码模板，使哈达玛高光谱成像系统处于无编码模板状态；步骤2、根据哈达玛高光谱成像系统的各探测谱段确定对应单色光的波长；步骤3、按照步骤2中确定的单色光波长，产生不同波长单色光照射处于无编码模板状态的哈达玛高光谱成像系统，并记录其探测到的灰度值，得到每个波长单色光照射下的无编码模板灰度值；步骤4、安装哈达玛高光谱成像系统中的编码模板，使哈达玛高光谱成像系统处于有编码模板状态；步骤5、按照步骤2中确定的单色光波长，产生不同波长单色光照射处于有编码模板状态的哈达玛高光谱成像系统，使探测器上呈现亮、暗相间的条纹；步骤6、记录步骤5中不同波长单色光照射下哈达玛高光谱成像系统探测处于有编码模板状态时所得的灰度值，并记录每个波长单色光照射下的亮条纹部分灰度值和暗条纹部分灰度值；步骤7、根据步骤3得到的无编码模板灰度值，以及步骤6得到的亮条纹部分灰度值和暗条纹部分灰度值，计算哈达玛解码矩阵透过部分校正因子和哈达玛解码矩阵遮挡部分校正因子；步骤8、根据步骤7得到的哈达玛解码矩阵透过部分校正因子和哈达玛解码矩阵遮挡部分校正因子，对哈达玛解码矩阵进行校正，得到校正后的哈达玛解码矩阵；步骤9、对校正后的哈达玛解码矩阵求逆，得到校正后的哈达玛编码矩阵，完成哈达玛高光谱成像系统编码模板透过率误差的校正。
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百度查询： 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种哈达玛高光谱成像系统编码模板透过率误差校正方法
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