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申请/专利权人：南京晶升装备股份有限公司
摘要：本发明公开了一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室，包括喷嘴、位于喷嘴上方的衬底、与喷嘴出气端连接的旋流管和位于衬底、旋流管外侧的石英外衬；所述旋流管设有三条气流通路，分别为供NH3和分隔气通过的第一气流通路，供分隔气通过的第二气流通路，供GaCl通过的第三气流通路；所述第一气流通路内设有离心装置，当NH3和分隔气通过第一气流通路时，离心装置使NH3和分隔气进行旋转和离心运动，由扩散预反应生成的细小晶粒被甩向石英外衬后受重力作用掉落集中在收集槽中，而气流沿着石英外衬壁面向衬底中心方向流动；小部分分隔气还经第二气流通路形成射流向垂直衬底方向流动，GaCl经第三气流通路沿垂直衬底方向向衬底中心流动。
主权项：1.一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室，包括喷嘴1和位于喷嘴1上方的衬底2，其特征在于，还包括与喷嘴1出气端连接的旋流管3和位于衬底2、旋流管3外侧的石英外衬4；所述旋流管3设有三条气流通路，分别为供NH3和分隔气通过的第一气流通路，供分隔气通过的第二气流通路，供GaCl通过的第三气流通路；所述第一气流通路内设有离心装置，当NH3和一部分分隔气通过第一气流通路时，离心装置使NH3和分隔气进行旋转和离心运动，并沿着石英外衬4壁面向衬底2中心方向流动；另一部分分隔气还经第二气流通路形成射流沿垂直衬底2方向流动，GaCl经第三气流通路沿垂直衬底2方向向衬底中心流动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京晶升装备股份有限公司 一种减少寄生沉积及提高氨气均匀性的HVPE设备腔室
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