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申请/专利权人:杭州福斯特电子材料有限公司
摘要:本申请提供了一种感光性抗蚀剂组合物和干膜抗蚀剂。本申请提供的感光性抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂50~65%,光聚合性化合物30~50%,光引发剂0.5~5%;其中,碱溶性树脂的单体包括第一单体,第一单体具有如下式I所示结构。本申请提供的感光性抗蚀剂组合物通过特定质量配比的碱溶性树脂、光聚合性化合物和光引发剂相互配合形成的干膜抗蚀剂不仅具备优异的耐电镀性和可剥离特性,而且具有良好的盖孔能力和高解析度,在印刷电路板领域具有广泛的应用前景。
主权项:1.一种感光性抗蚀剂组合物,其特征在于,按照质量百分比计,所述感光性抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂50~65%,光聚合性化合物30~50%,光引发剂0.5~5%;其中,所述碱溶性树脂的单体包括第一单体,所述第一单体具有如下式I所示结构: 其中,R1选自氢原子或甲基;R2选自取代或非取代的C1~C6的烷基,取代或非取代的C6~C10的芳基;X为卤素。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 杭州福斯特电子材料有限公司 感光性抗蚀剂组合物和干膜抗蚀剂
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