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申请/专利权人：琳得科株式会社
申请日：2020-02-06
公开（公告）日：2024-06-04
公开（公告）号：CN113519092B
专利技术分类：
专利摘要：本发明的一个方案为提供一种不易受周围环境影响的电磁波吸收膜。电磁波吸收膜10具有平板状的基材20、形成在基材20上的第一电磁波吸收图案1、形成在基材20上的第二电磁波吸收图案2、形成在基材20上的第三电磁波吸收图案3，第一电磁波吸收图案1吸收的电磁波的吸收量在20～110GHz范围内表现出极大值的频率为A[GHz]，第二电磁波吸收图案2吸收的电磁波的吸收量表现出极大值的频率的值满足下述式1的B[GHz]，第三电磁波吸收图案3吸收的电磁波的吸收量表现出极大值的频率的值满足下述式2的C[GHz]。1.037×A≤B≤1.30×A···式10.60×A≤C≤0.963×A···式2。
专利权项：1.一种电磁波吸收膜，其具有平板状的基材、形成在所述基材上的第一电磁波吸收图案、形成在所述基材上的第二电磁波吸收图案、及形成在所述基材上的第三电磁波吸收图案，所述第一电磁波吸收图案、所述第二电磁波吸收图案及所述第三电磁波吸收图案形成在所述基材的表面，所述第一电磁波吸收图案具有多个第一阵列，该第一阵列中排列有多个形状为相互相同的图形的第一单元，所述第二电磁波吸收图案具有多个第二阵列，该第二阵列中排列有多个形状为相互相同的图形的第二单元，所述第三电磁波吸收图案具有多个第三阵列，该第三阵列中排列有多个形状为相互相同的图形的第三单元，所述第一阵列、所述第二阵列、所述第三阵列以相互邻接的方式配置在所述基材上，所述第一电磁波吸收图案所吸收的电磁波的吸收量在20～110GHz的范围内表现出极大值的频率为A[GHz]，所述第二电磁波吸收图案所吸收的电磁波的吸收量表现出极大值的频率为B[GHz]，所述B[GHz]满足下述式1，所述第三电磁波吸收图案所吸收的电磁波的吸收量表现出极大值的频率为C[GHz]，所述C[GHz]满足下述式2，1.037×A≤B≤1.30×A···式1，0.60×A≤C≤0.963×A···式2。
百度查询： 琳得科株式会社 电磁波吸收膜、电磁波吸收片
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