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一种刮涂工艺的空穴传输层的制备方法及其应用 

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申请/专利权人:常州大学

摘要:本发明公开了一种刮涂工艺的空穴传输层的制备方法及其应用,包括,包括:NiOx优化层;优化材料为十二烷基苯磺酸钠,在混合之后需要进行超声处理;空穴传输层在沉积在NiOx优化层后需要经过退火处理。该空穴传输层通过在NiOx薄膜中引入了十二烷基苯磺酸钠并作后退火处理,抑制了NiOx自发的聚集效应,优化了与钙钛矿层间的界面接触,降低空穴传输层与钙钛矿层之间潜在的界面重组损失,提升了钙钛矿太阳电池的性能,提升钙钛矿太阳能电池的生产效率。

主权项:1.一种刮涂工艺的空穴传输层的制备方法,其特征在于:包括,将NiO纳米颗粒与去离子水混合超声后常温搅拌得NiO溶液;将NiO溶液和十二烷基苯磺酸钠混合得添加后的NiO溶液;将添加后的NiO溶液滴加在基板上经过刮涂推送得到NiO薄膜;NiO薄膜经过退火处理得到所述空穴传输层;其中,所述十二烷基苯磺酸钠的结构式如式1所示:

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