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申请/专利权人：中国科学院微电子研究所
摘要：本发明涉及检测技术领域，公开一种污染测试清洗装置及方法，装置包括真空腔室系统、真空抽气系统、进气系统和检测系统，真空腔室系统包括第一真空腔室、第二真空腔室、控制阀以及电子束发生装置，第一真空腔室内设有样片，真空抽气系统与第一真空腔室和第二真空腔室连接，进气系统包括向第一真空腔室内通入污染气体的第一进气单元、注入气体等离子体的第二进气单元和注入普通气体的第三进气单元，检测系统包括与第一真空腔室和第二真空腔室连接的测量单元。本发明可进行样片的含碳类污染气体的碳沉积效应测试和含氧类污染气体的氧化效应测试，并对污染气体的扩散行为进行分析；通过向第一真空腔室内注入气体等离子体可对样片进行污染清洗。
主权项：1.一种污染测试清洗装置，其特征在于，包括：真空腔室系统，包括第一真空腔室、第二真空腔室、控制阀以及电子束发生装置，所述控制阀设置在所述第一真空腔室与所述第二真空腔室之间，用于控制所述第一真空腔室与所述第二真空腔室连通或断开，所述电子束发生单元设置于所述第一真空腔室上，所述第一真空腔室内设置有样品放置件，所述样品放置件用于放置样片；真空抽气系统，分别与所述第一真空腔室和所述第二真空腔室连接，所述真空抽气系统用于对所述第一真空腔室和所述第二真空腔室分别单独抽真空；进气系统，包括与所述第一真空腔室连通的第一进气单元和第二进气单元，以及与所述第一真空腔室和第二真空腔室连接的第三进气单元，所述第一进气单元用于向所述第一真空腔室内通入污染气体，所述第二进气单元用于向所述第一真空腔室内注入气体等离子体，所述第三进气单元用于向所述的第一真空腔室或第二真空腔室通入普通气体或校准气体；检测系统，包括分别与所述第一真空腔室和所述第二真空腔室连接的测量单元，所述测量单元用于对所述样片、所述第一真空腔室和所述第二真空腔室进行检测分析。
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