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申请/专利权人：天津双微电子科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种等离子体蚀刻技术的金属腔体，属于感光化学技术领域，包括外壳、连接装置、屏蔽装置和旋转装置。解决了现有技术中由于现有技术不足而导致的产品蚀刻均一性较差问题。而本实用新型将会改进原有技术解决均一性与等离子体产率的问题，等离子体的产率主要在于是如何持物不断的产生等离子体，本实用新型将采用将使用高频电磁波产生射频，使外壳内可以连续不断的产生等离子体，射频电源将通过石英玻璃击穿真空，产生等离子体，需要给线圈持续不断地通电，线圈就可以一直发出射频电源，也就可以保证腔体内一直有等离子体，同时，为了保证蚀刻的均一性，旋转装置会使用伺服电机带动放置盘与放置盘上物料一起旋转，进行均匀蚀刻。
主权项：1.一种等离子体蚀刻技术的金属腔体，其特征在于，包括外壳1、连接装置2、屏蔽装置3和旋转装置4，所述外壳1下方安装有旋转装置，所述外壳1前面安装有连接装置2，所述外壳1右侧安装有屏蔽装置3；所述连接装置2包括连接板21、窗口结构22、法兰盘23和安装板24，所述外壳1内侧设置有连接板21，所述连接板21中部设置有安装板24，所述安装板24上开有若干冷却孔，所述安装板24中部设置有法兰盘23，所述法兰盘23内侧设置有窗口结构22；所述屏蔽装置3包括屏蔽盒31、线圈32和安装件33，所述外壳1右侧螺接安装有安装件33，所述安装件33右侧设置有线圈32，所述线圈32右侧设置有屏蔽盒31；所述旋转装置4包括电机41、连接件42、旋转组件43和放置盘44，所述外壳1下方螺接安装有连接件42，所述连接件42内部设置有旋转组件43，所述旋转组件43下方传动连接有电机41，所述旋转组件43上方传动连接有放置盘44。
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权利要求：
百度查询： 天津双微电子科技有限公司 一种等离子体蚀刻技术的金属腔体
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