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申请/专利权人:苏州众芯联电子材料有限公司
摘要:本发明公开了一种耐等离子体腐蚀的氧化钇涂层及其制备方法,其中氧化钇涂层在基材上形成,包括在基材依次形成的第一氧化钇涂层和第二氧化钇涂层,其中第二氧化钇涂层的孔隙率小于第一氧化钇涂层的孔隙率。结合了常规等离子氧化钇喷涂工艺成膜快和第二氧化钇涂层工艺孔隙率低的特点,能够更加有效地抑制刻蚀气体侵入、接触设备部件。
主权项:1.一种耐等离子体腐蚀的氧化钇涂层,其特征在于:所述氧化钇涂层在基材上形成,包括在所述基材上依次形成的第一氧化钇涂层和第二氧化钇涂层,其中所述第二氧化钇涂层的孔隙率小于所述第一氧化钇涂层的孔隙率。
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百度查询: 苏州众芯联电子材料有限公司 一种耐等离子体腐蚀的氧化钇涂层及其制备方法
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