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申请/专利权人：应用材料以色列公司
摘要：提供了用于自动地确定沿第一方向和或沿与所述第一方向正交的第二方向覆盖试样的多个裸片的多个区以供检定系统获取的方法和系统。选择所述区沿所述第一方向的尺寸以使得能够优化由所述检定系统获取的片的总重叠水平以覆盖所述多个区。区沿所述第二方向的尺寸使得所述检定系统用于处理每个区的图像所使用的总并行计算能力能够最大化。
主权项：1.一种包含处理器和存储器电路系统PMC的系统，所述PMC被配置为：-获得检定系统的照射斑的尺寸W斑，使得所述检定系统能够沿扫描方向获取包含多个裸片的半导体试样的片；-获得提供所述半导体试样的所述多个裸片中的每个裸片的至少一个尺寸D裸片_X的信息的数据，其中所述尺寸被限定为沿与所述扫描方向正交的方向；-使用W斑来沿所述方向确定要在所述半导体试样中获取的多个区中的每个区的尺寸D区_X，其中所述尺寸D区_X大于所述尺寸D裸片_X，其中所述尺寸D区_X经选择以使得能够生成优化配方，在所述优化配方中，所述检定系统对所述多个区的获取与由所述检定系统获取的片之间的总重叠水平相关联，所述总重叠水平满足优化标准；并且-使用所述尺寸D区_X以使得能够生成用于所述检定系统的所述优化配方，由此使得能够由所述检定系统获取所述试样的所述多个区。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料以色列公司 检定工具的配方的优化
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