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申请/专利权人：基础科学公司

摘要：描述了用于自动取样、消溶和连结样品的多个样品引入系统以供ICP‑MS进行后续分析的系统和方法。系统实施例可以包括：消溶容器，其被配置为接收来自加压的样品源的样品；截止阀，其被配置为控制去往消溶容器的样品的流动；第一注射泵，其被配置为将试剂引入消溶容器中的样品；热受控块，其围绕消溶容器并且被配置为控制消溶容器的温度，其中热受控块在消溶之前将消溶容器的温度升高到第一设定温度，并且其中热受控块在消溶之后将消溶容器的温度降低到第二设定温度；液位传感器，其被配置为测量消溶容器内的样品的液位；第二注射泵，其被配置为至少部分地基于由液位传感器测量的液位在消溶之后将去离子水引入消溶容器；以及连接器阀。

主权项：1.一种系统，包括：消溶容器，其被配置为接收来自加压的样品源的样品；截止阀，其被配置为控制去往所述消溶容器的所述样品的流动；第一注射泵，其被配置为将试剂引入所述消溶容器中的所述样品；热受控块，其围绕所述消溶容器并且被配置为控制所述消溶容器的温度，其中，所述热受控块在消溶之前将所述消溶容器的温度升高到第一设定温度，并且其中，所述热受控块在消溶之后将所述消溶容器的温度降低到第二设定温度；液位传感器，其被配置为测量所述消溶容器内部的所述样品的液位；第二注射泵，其被配置为至少部分地基于由所述液位传感器测量的所述液位来在消溶之后将去离子水引入所述消溶容器；以及连接器阀，其被配置为接收来自所述消溶容器的消溶的样品并且将所述消溶的样品转移到分析系统；其中，所述消溶容器还包括：辅助溢流出口，其包括用于监测通过所述辅助溢流出口的流体的流动的泄漏传感器。

全文数据：用于自动取样、样品消溶和连结多个样品引入系统的系统相关申请的交叉引用本专利申请要求享有于2018年1月8日提交的题为“SYSTEMFORJOININGAPLURALITYSAMPLEINTRODUCTIONSYSTEMS”的、序列号为62614,744的美国临时申请以及于2018年1月8日提交的题为“SYSTEMFORAUTOMATICSAMPLINGANDSAMPLEDIGESTION”的、序列号为62614,761的美国临时申请的35U.S.C§119e的权益；序列号为62614,744的美国临时申请和序列号为62614,761的美国临时申请的全部内容通过引用方式并入本文。背景技术光谱法是指根据波长对辐射强度的测量，以识别材料的组成部分。电感耦合等离子体ICP光谱法是常用于测定液体样品中痕量元素浓度和同位素比的分析技术。例如，在半导体工业中，ICP光谱法可以用于测定样品中的金属浓度。ICP光谱法采用电磁生成的部分电离的氩等离子体，其温度达到约7,000K。当样品被引入等离子体时，高温使得样品原子变得电离化或发光。由于每种化学元素产生特性质谱或发射光谱，因此测量发射的质谱或光的光谱允许对原始样品的元素组成进行确定。待分析的样品通常以样品混合物提供。可以采用样品引入系统来将液体样品引入ICP光谱仪器例如，电感耦合等离子体质谱光谱仪ICPICP-MS、电感耦合等离子体原子发射光谱仪ICP-AES等中以用于分析。例如，样品引入系统可以从容器中取出液体样品的等分试样，然后将等分试样输送到雾化器，该雾化器将等分试样转换成适于通过ICP光谱仪器在等离子体中电离的多分散气雾剂。然后将气雾剂在喷雾室中进行分选以除去较大的气雾剂颗粒。在离开喷雾室时，通过ICP-MS或ICP-AES仪器的等离子体火炬torch组件将气雾剂引入等离子体中以用于分析。附图说明参考附图描述了详细描述。在附图中，在说明书和附图中的不同实例中使用相同的附图标记可以指示相似或相同的项目。图1A是根据本公开内容的示例实现方式的用于自动取样、消溶和连结样品的多个样品引入系统并且用于输送和制备消溶的样品以用于分析的系统的部分示意图。图1B是根据本公开内容的示例实现方式的来自图1A的系统的部分示意图，该系统用于自动取样、消溶和连结样品的多个样品引入系统并且用于输送和制备消溶的样品以用于分析。图1C示出了根据本公开内容的某些实施例的被配置用于提供系统和方法的示例计算机设备140，该系统和方法用于自动取样、消溶和连结样品的多个样品引入系统并且用于输送和制备消溶的样品以用于分析。图2是根据本公开内容的示例实现方式的来自图1A所示的系统的消溶系统的示意图。图3A是示出根据本公开内容的示例实现方式的用于系统的示例过程的流程图，该系统用于对样品的自动取样和消溶以用于分析，例如，图1A、图1B和图2所示的系统。图3B是示出根据本公开内容的示例实现方式的用于系统的示例过程的流程图，该系统用于对样品的自动取样和消溶以用于分析，例如，图1A、图1B和图2所示的系统。具体实施方式概述描述了用于自动取样、消溶和连结样品的多个样品引入系统以供ICP-MS进行后续分析的系统和方法。用于样品引入系统的系统实施例包括但不限于：消溶容器，其被配置为接收来自加压的样品源的样品；截止阀，其被配置为控制去往消溶容器的样品的流动；第一注射泵，其被配置为将试剂引入消溶容器中的样品；热受控块，其围绕消溶容器并且被配置为控制消溶容器的温度，其中，热受控块在消溶之前将消溶容器的温度升高到第一设定温度，并且其中，热受控块在消溶之后将消溶容器的温度降低到第二设定温度；液位传感器，其被配置为测量消溶容器内的样品的液位；第二注射泵，其被配置为至少部分地基于由液位传感器测量的液位在消溶之后将去离子水引入消溶容器；以及连接器阀，其被配置为接收来自消溶容器的消溶的样品并且将消溶的样品转移到分析系统。用于自动取样和消溶的方法实施例包括但不限于：经由截止阀控制样品从加压的样品源到消溶容器的流动；捕获消溶容器中的样品的特定体积；经由第一注射泵将试剂添加到消溶容器中的样品；使用热受控块在设定时间内将消溶容器的温度升高到第一设定温度；消溶该消溶容器中的样品；经由液位传感器测量消溶容器内部的样品的液位；至少部分地基于所测量的消溶容器内部的样品的液位，经由第二注射泵将去离子水引入消溶容器以使样品返回到特定体积；使用热受控块主动地将消溶容器的温度降低到室温；以及将样品从消溶容器转移到分析系统。用于自动取样、消溶和连结多个样品引入系统的另一系统实施例包括但不限于：连接器阀，其耦合在至少两个样品引入系统之间，连接器阀被配置为接收来自第一样品引入系统的第一样品和来自第二样品引入系统的第二样品。第一样品引入系统包括：消溶容器，其被配置为接收来自加压的样品源的第一样品；截止阀，其被配置为控制去往消溶容器的第一样品的流动；第一注射泵，其被配置为将试剂引入消溶容器中的第一样品；热受控块，其围绕消溶容器并且被配置为控制消溶容器的温度，其中，热受控块在消溶之前将消溶容器的温度升高到第一设定温度，并且其中，热受控块在消溶之后将消溶容器的温度降低到第二设定温度；液位传感器，其被配置为测量消溶容器内部的第一样品的液位；以及第二注射泵，其被配置为至少部分地基于由液位传感器测量的第一样品的液位来在消溶之后将去离子水引入消溶容器。该系统还包括：样品环，其与连接器阀流体连通，样品环被配置为接收由第一泵推动的第一样品，并且被配置为接收由第二泵拉动的第二样品；以及分析系统，其被配置为分析以下各项中的至少一项：第一样品或第二样品。示例实现方式参考图1A、图1B、图1C、图2和图3，描述了用于对样品的自动取样和消溶、输送和制备消溶的样品以用于分析以及连结多个样品引入系统的系统和方法。样品消溶可以涉及将酸或其他试剂加入样品并且加热样品以将样品中存在的金属或其他化合物溶解到溶液中以用于随后分析消溶的样品中感兴趣的种类。图1A和图1B在示例实现方式中示出了用于对样品的自动取样和消溶、输送和制备消溶的样品以用于分析以及连结多个样品引入系统的系统100。如示出的，系统100通常包括样品输入102、消溶系统104、第一泵系统106、过滤系统108、连接器阀110、辅助样品源112、样品引入系统122、第二样品引入系统114、雾化器116和火炬118。贯穿本公开内容，术语样品制备系统和样品引入系统可以可互换地使用。样品输入102可以接收来自加压的样品源的样品，例如，化学再循环流或另一加压的样品源。然后可以将从样品输入102接收的样品引入消溶系统104例如，经由截断阀120。在实现方式中，截断阀120控制去往消溶系统104的样品的流动，例如，通过切换截断阀的配置以提供不同的流动路径，以及移除样品输入102与消溶系统104之间的流动路径。可以根据期望的流动时间、期望的流动体积例如，如通过消溶样品大小、通过样品的流速和允许样品输入102与消溶系统104之间的流动的给定时间等确定的或另一参数来停止去往消溶系统104的样品的流动。参考图2，在示例实现方式中示出了消溶系统104。如示出的，消溶系统104通常包括样品输入流200、消溶容器202、搅动系统204、温度控制系统206、溢流出口208、辅助溢流出口210、酸输入212、去离子水输入214、液位传感器216和消溶样品出口218。在实现方式中，截断阀120控制样品从样品输入102到样品输入流200的流动。引入消溶系统104的样品的体积可以通过消溶容器202的容积来控制，其中，过量样品可以经由溢流出口208和或辅助溢流出口210除去。在实现方式中，辅助溢流出口210包括泄漏传感器，其用于监测流体从消溶容器202通过辅助溢流出口210的流动。一旦将期望体积的样品置于消溶容器202内，酸或其他试剂就经由酸输入212被引入消溶容器，其中，酸或其他试剂可以经由第一泵系统106的注射泵例如，图1A所示的注射泵220添加。在引入酸或其他试剂之后、或者在其之前或与其组合，温度控制系统206升高消溶容器202的温度以控制组合的样品和酸或其他试剂的条件，例如，以用于样品中存在的金属的消溶。在实现方式中，温度控制系统206将消溶容器的温度升高到设定温度，在设定的时间量内升高，或其组合。例如，温度控制系统206可以包括热受控块例如，珀耳帖Peltier设备，该热受控块用于支持消溶容器202并在特定时间段内将消溶容器202的温度控制到第一设定温度。消溶系统104内的条件还可以由搅动系统204管理，其中，可以搅动消溶系统104内的流体以促进消溶过程。在实现方式中，搅动系统204包括消溶容器202内的磁性搅拌棒222和磁性搅拌板224，该磁性搅拌板224用于控制磁性搅拌棒222在消溶容器202内的旋转。在消溶过程之后，经由去离子水输入214将去离子水添加到消溶容器202。在实现方式中，去离子水经由注射泵例如，图1A所示的注射泵226引入消溶系统104。在另一示例实现方式中，去离子水还可以通过其他手段引入，例如，经由蠕动泵。将去离子水添加到消溶容器202以使样品在消溶之后返回到特定体积。在实现方式中，通过经由来自传感器的输出对注射泵226的控制来实现特定体积。例如，消溶系统104可以包括位于消溶容器202的特定高度处的液位传感器216，以在液位传感器216检测到消溶容器202中存在的液体的特定液位时停止注射泵226的操作。在实现方式中，液位传感器216可以包括但不限于光学传感器、电容传感器或其组合。在通过添加去离子水使样品返回到特定体积之后，温度控制系统206主动将消溶容器202内的样品冷却至低于第一设定温度的第二设定温度。在示例实施例中，第二设定温度可以近似等于室温。然后系统100经由注射泵将样品通过消溶样品出口218从消溶容器202拉出。例如，第一泵系统106的注射泵228可以从消溶容器202对样品进行抽取，并且抽取到样品环230中。然后可以将样品从样品环230推出例如，经由注射泵228的动作到包括一个或多个过滤器232的过滤系统108，该过滤器232用于在将样品转移到辅助系统以用于样品分析或另外的化学过程例如，附加的消溶等之前过滤样品。例如，在过滤之后，可以将样品引入连接器阀110图1B所示，连接器阀110然后可以将样品转移到样品制备系统114。参考图1B，连接器阀110将第一样品引入系统122与第二样品引入系统114连结，以允许样品经由根据样品引入系统114的操作而拉入环124或125中，或者通过样品引入系统112的操作而推入环124或125中来引入系统100。例如，样品引入系统122包括但不限于本文先前描述的消溶系统104、第一泵系统106和过滤系统108。为了将样品从样品引入系统122引入环124或125，连接器阀110可以处于负载配置如图1A所示，其中，注射器228推动样品通过过滤器232并推到连接器阀110上，该连接器阀110与第二样品引入系统114的阀126流体连通，以将样品推入环124中。然后可以制备样品以用于在经由雾化器116和火炬118引入分析设备例如，ICPMS之后由分析设备进行分析。当连接器阀110处于注入配置例如，其中端口1和端口2处于流体连通；端口3和端口4处于流体连通；并且端口5和端口6处于流体连通时，第二样品引入系统114可以通过真空泵128或来自第二泵系统130的泵例如，注射泵132的操作通过从辅助样品源112拉出一个或多个样品来将辅助样品源112引入环124。一旦进入环124，就可以制备样品以用于在经由雾化器116和火炬118引入分析设备例如，ICPMS之后由分析设备进行分析。在实现方式中，第二样品引入系统114是来自NE的Omaha的ElementalScientific的prepFAST自动稀释系统，其用于制备样品以供分析设备进行分析例如，经由对样品和标准品的内联自动稀释。现在参考图1A和图1C，系统100可以自动管理系统100内的流体的取样，通过消溶系统104以及可操作地耦合到其的组件例如，过滤系统108、连接器阀110、截断阀120、第一泵系统106、第二泵系统130等的操作来消溶样品，促进对来自样品引入系统例如，来自样品引入系统122和第二样品引入系统114的多个样品的连结，并且促进操纵样品以供分析设备进行分析例如，通过对样品、标准品等的内联稀释，以用已知稀释因子操作，自动创建标准校准曲线等。例如，系统100可以包括计算设备或控制器140，其包括处理器142和存储器150，如图1C所示。处理器142为计算设备140提供处理功能，并且可以包括任何数量的处理器、微控制器或其他处理系统，以及用于存储由计算设备访问或生成的数据和其他信息的驻留或外部存储器。处理器可以执行实现本文描述的技术的一个或多个软件程序。处理器不受形成其的材料或其中采用的处理机制的限制，因此，可以经由半导体和或晶体管例如，电子集成电路IC等来实现。存储器150是设备可读存储介质的示例，其提供存储功能以存储与计算设备的操作相关联的各种数据，例如，上面提到的软件程序和代码段，或用于指示处理器和计算设备的其他元素执行本文描述技术的其他数据。尽管上面提到了单个存储器，但是可以采用各种各样的类型的存储器和存储器的组合。存储器150可以与处理器、独立存储器或二者的组合集成。存储器可以包括例如可移除存储器元件和不可移除存储器元件，例如，操作系统152、RAM、ROM、闪速例如，SD卡、迷你SD卡、微型SD卡、磁、光、USB存储器设备等。在计算设备的实施例中，存储器150可以包括可移除ICC集成电路卡存储器，例如，由SIM订户身份模块卡、USIM通用订户身份模块卡、UICC通用集成电路卡等提供的。图1C示出了与存储器150分离的可移除存储装置158和不可移除存储装置160。在其他实施例中，可移除存储装置158和不可移除存储装置160还可以被包括在存储器150内。计算设备140可以包括用于向计算设备的用户显示信息的显示器。在实施例中，显示器可包括CRT阴极射线管显示器、LED发光二极管显示器、OLED有机LED显示器、LCD液晶二极管显示器、TFT薄膜晶体管LCD显示器、LEP发光聚合物或PLED聚合物发光二极管显示器等，其被配置为显示文本和或图形信息，例如，图形用户接口。显示器可以经由背光进行背光照明，以使得其可以在黑暗或其他低光环境中被查看。显示器可以设置有触摸屏以从用户接收输入例如，数据、命令等。例如，用户可以通过对触摸屏进行触摸和或通过在触摸屏上执行手势来操作计算设备。在一些实施例中，触摸屏可以是电容式触摸屏、电阻式触摸屏、红外触摸屏、其组合等。计算设备还可以包括一个或多个输入输出IO设备146和148例如，小键盘、按钮、无线输入设备、指轮输入设备、轨迹杆输入设备等。IO设备可以包括一个或多个音频IO设备，例如，麦克风、扬声器等。计算设备还可以包括一个或多个通信连接144，其表示用于允许计算设备在不同设备例如，组件外围设备之间和或通过一个或多个网络发送接收数据的通信功能。通信连接144可以表示各种通信组件和功能，包括但不一定限于：浏览器；发射器和或接收器；数据端口；软件接口和驱动程序；联网接口；数据处理组件；等等。一个或多个网络表示各种不同的通信通路和网络连接，其可以单独地或组合地用于在自动取样和消溶环境的组件之间进行通信。因此，一个或多个网络可以表示使用单个网络或多个网络实现的通信通路。此外，一个或多个网络表示设想的各种不同类型的网络和连接，包括但不一定限于：互联网；内联网；个域网PAN；局域网LAN例如，以太网；广域网WAN；卫星网络；蜂窝网络；移动数据网络；有线和或无线连接；等等。无线网络的示例包括但不一定限于被配置用于根据以下标准中的一个或多个标准通信的网络：电气和电子工程师协会IEEE标准，例如，802.11或802.16Wi-Max标准；由Wi-Fi联盟颁布的Wi-Fi标准；由蓝牙特别兴趣小组颁布的蓝牙标准；等等。还设想有线通信，例如，通过通用串行总线USB、以太网、串行连接等。计算设备140可以包括用户接口未示出，其可存储在存储器中并且可由处理器执行。用户接口表示用于控制经由显示器向计算设备的用户显示信息和数据的功能。在一些实现方式中，显示器可以不被集成到计算设备140中，而是可以使用通用串行总线USB、以太网、串行连接等在外部连接。用户接口可以通过经由触摸屏和或IO设备提供输入例如，样品身份、期望的稀释因子、期望的消溶流体、标准溶液类型等来提供用于允许用户与计算设备的一个或多个应用交互的功能。例如，用户接口可以使得生成应用编程接口API以向内联稀释控制软件154程序、消溶容器控制软件156程序或其他软件程序暴露用于配置应用用于由显示器或与另一显示器组合地显示的功能。在实施例中，API可以进一步暴露用于配置内联稀释控制软件程序以通过经由触摸屏和或IO设备提供输入来允许用户与应用交互以便提供期望的稀释因子用于分析的功能。内联稀释控制软件154程序、消溶容器控制软件156程序或其他程序可以包括可存储在存储器中并且可由处理器执行的软件，该软件用于执行特定操作或操作组以向内联稀释系统或消溶容器提供功能。内联稀释控制软件程序提供用于控制例如内部标准品和或来自样品输入102、辅助样品源112或其组合的样品的稀释的功能。例如，内联稀释控制软件154程序、消溶容器控制软件156程序或其他程序可以控制由系统100的泵例如，第一泵系统106、第二泵系统130的注射泵等供应的载体、稀释剂、酸、去离子水、标准品或其他流体的量。通常，可以使用软件、固件、硬件例如，固定逻辑电路、手动处理或这些实现方式的组合来实现本文描述的功能中的任何一个。如本文使用的术语“计算设备”通常表示软件、固件、硬件或其组合。例如，系统100中的组件之间的通信可以是有线的、无线的或其某种组合。例如，在软件实现方式的情况下，软件可以表示当在诸如本文描述的处理器之类的处理器上被执行时执行指定任务的可执行指令。程序代码可以存储在一个或多个设备可读存储介质中，设备可读存储介质的示例是与计算设备相关联的存储器。示例过程下面的讨论描述了可以在用于对样品的自动取样和消溶的装置中实现的过程。过程的方面可以用硬件、固件或软件或其组合来实现。过程被示出为一组框，其指定由一个或多个设备执行的操作，并且不一定限于所示出的由相应的框执行操作的次序。图3A和图3B示出了用于对样品的自动取样和消溶的方法300，例如，上面描述的系统100。方法300可以包括：经由截止阀控制样品从加压的样品源到消溶容器的流动框302；捕获消溶容器中的样品的特定体积框304；经由第一注射泵将试剂添加到消溶容器中的样品框306；使用热受控块在设定时间内将消溶容器的温度升高到第一设定温度框308；消溶该消溶容器中的样品框310；经由液位传感器测量消溶容器内部的样品的液位框312；至少部分地基于所测量的消溶容器内部的样品的液位，经由第二注射泵将去离子水引入消溶容器以使样品返回到特定体积框314；使用热受控块主动地将消溶容器的温度降低到室温框316；以及将样品从消溶容器转移到分析系统框318。结论尽管已经用特定于结构特征和或过程操作的语言描述了主题，但应当理解，所附权利要求书中定义的主题不一定限于上面描述的特定特征或动作。而是，上面描述的特定特征和动作作为实现权利要求的示例形式而公开。

权利要求：1.一种系统，包括：消溶容器，其被配置为接收来自加压的样品源的样品；截止阀，其被配置为控制去往所述消溶容器的所述样品的流动；第一注射泵，其被配置为将试剂引入所述消溶容器中的所述样品；热受控块，其围绕所述消溶容器并且被配置为控制所述消溶容器的温度，其中，所述热受控块在消溶之前将所述消溶容器的温度升高到第一设定温度，并且其中，所述热受控块在消溶之后将所述消溶容器的温度降低到第二设定温度；液位传感器，其被配置为测量所述消溶容器内部的所述样品的液位；第二注射泵，其被配置为至少部分地基于由所述液位传感器测量的所述液位来在消溶之后将去离子水引入所述消溶容器；以及连接器阀，其被配置为接收来自所述消溶容器的消溶的样品并且将所述消溶的样品转移到分析系统。2.根据权利要求1所述的系统，还包括：过滤系统，其被配置为在消溶之后对所述消溶样品进行过滤。3.根据权利要求1所述的系统，还包括：控制器，其耦合到所述消溶容器、所述截止阀、所述第一注射泵、所述热受控块、所述液位传感器、所述第二注射泵以及所述连接器阀，所述控制器被配置为控制以下各项中的至少一项：对流体的取样、所述消溶容器的操作或操纵样品，以供所述分析系统进行分析。4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述消溶容器还包括：辅助溢流出口，其包括用于监测通过所述辅助溢流出口的流体的流动的泄漏传感器。5.根据权利要求1所述的系统，还包括：搅动系统，其用于管理对所述消溶容器的搅动，包括：磁性搅拌棒；以及磁性搅拌板，其用于控制所述磁性搅拌棒在所述消溶容器内的旋转。6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述热受控块还包括：珀耳帖设备。7.根据权利要求1所述的系统，还包括：与所述连接器阀流体连通的样品环，所述样品环被配置为接收以下各项中的至少一项：由第一泵推动的所述样品或由第二泵拉动的第二样品。8.一种方法，包括：经由截止阀控制样品从加压的样品源到消溶容器的流动；捕获所述消溶容器中的所述样品的特定体积；经由第一注射泵将试剂添加到所述消溶容器中的所述样品；使用热受控块在设定时间内将所述消溶容器的温度升高到第一设定温度；消溶所述消溶容器中的所述样品；经由液位传感器测量所述消溶容器内部的所述样品的液位；至少部分地基于所测量的所述消溶容器内部的所述样品的液位，经由第二注射泵将去离子水引入所述消溶容器以使所述样品返回到所述特定体积；使用所述热受控块主动地将所述消溶容器的温度降低到低于所述第一设定温度的第二设定温度；以及将所述样品从所述消溶容器转移到分析系统。9.根据权利要求8所述的方法，还包括：经由过滤系统对来自所述消溶容器的消溶的样品进行过滤。10.根据权利要求8所述的方法，还包括：经由泄漏传感器监测通过所述消溶容器的辅助出口端口的流体的流动。11.根据权利要求8所述的方法，其中，消溶所述消溶容器中的所述样品还包括：使用搅动系统来搅动所述样品，所述搅动系统包括：磁性搅拌棒；以及磁性搅拌板，其用于控制所述磁性搅拌棒在所述消溶容器内的旋转。12.根据权利要求8所述的方法，其中，所述热受控块还包括珀耳帖设备。13.根据权利要求8所述的方法，还包括：经由样品环接收以下各项中的至少一项：由第一泵推动的所述样品或由第二泵拉动的第二样品；其中，所述样品环与连接器阀流体连通。14.根据权利要求8所述的方法，其中，将所述样品从所述消溶容器转移到分析系统还包括：经由第三注射泵将所述样品从消溶系统抽取到样品环中；经由所述第三注射泵将所述样品从所述样品环推入过滤系统中；以及将所述样品从所述过滤系统引入连接器阀。15.一种系统，包括：连接器阀，其耦合在至少两个样品引入系统之间，所述连接器阀被配置为接收来自第一样品引入系统的第一样品和来自第二样品引入系统的第二样品，其中，所述第一样品引入系统包括：消溶容器，其被配置为接收来自加压的样品源的所述第一样品；截止阀，其被配置为控制去往所述消溶容器的所述第一样品的流动；第一注射泵，其被配置为将试剂引入所述消溶容器中的所述第一样品；热受控块，其围绕所述消溶容器并且被配置为控制所述消溶容器的温度，其中，所述热受控块在消溶之前将所述消溶容器的温度升高到第一设定温度，并且其中，所述热受控块在消溶之后将所述消溶容器的温度降低到第二设定温度；液位传感器，其被配置为测量所述消溶容器内部的所述第一样品的液位；以及第二注射泵，其被配置为至少部分地基于由所述液位传感器测量的所述第一样品的液位来在消溶之后将去离子水引入所述消溶容器；样品环，其与所述连接器阀流体连通，所述样品环被配置为接收由第一泵推动的第一样品，并且被配置为接收由第二泵拉动的所述第二样品；以及分析系统，其被配置为分析以下各项中的至少一项：所述第一样品或所述第二样品。16.根据权利要求15所述的分析系统，还包括电感耦合等离子体ICP光谱仪、电感耦合等离子体原子发射光谱仪ICP-AES或电感耦合等离子体质谱光谱仪ICP-MS。17.根据权利要求15所述的系统，还包括：搅动系统，其用于管理对所述消溶容器的搅动，包括：磁性搅拌棒；以及磁性搅拌板，其用于控制所述磁性搅拌棒在所述消溶容器内的旋转。18.根据权利要求15所述的系统，其中，所述热受控块包括：珀耳帖设备。19.根据权利要求15所述的系统，还包括：与所述连接器阀流体连通的样品环，所述样品环被配置为接收以下各项中的至少一项：由所述第一泵推动的样品或由所述第二泵拉动的所述第二样品。20.根据权利要求15所述的系统，还包括：控制器，其耦合到所述消溶容器、所述截止阀、所述第一注射泵、所述热受控块、所述液位传感器、所述第二注射泵以及所述连接器阀，所述控制器被配置为控制以下各项中的至少一项：对流体的取样、所述消溶容器的操作或操纵样品，以供所述分析系统进行分析。

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