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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
摘要：本申请提供一种光掩模注记差的修正方法及系统，应用于光掩模的应用技术领域，其中，包括：对光掩模图档插入注记差量测图形；通过曝光机对插入注记差量测图形的光掩模图档进行曝光，量测光掩模的注记差；通过量测的注记差补偿曝光机的修正参数；通过修正参数补偿后的曝光机对光掩模图档进行曝光，修正光掩模的注记差。本申请是在光掩模的曝光图形上插入注记差的量测图形再曝光得到误差，再将此误差通过GMC修正补偿到曝光机台后曝光，得到更小的注记差或是与其前层光掩模叠对差更小，进而可以协助芯片曝光时层与层的曝光图档，提升芯片的性能和良率。
主权项：1.一种光掩模注记差的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：量测图形插入步骤：对光掩模图档插入注记差量测图形；其中，将光掩模的数据图档在需要修正的范围内挖空等距的阵列排布的方格，并在方格中插入注记差量测图形；注记差量测步骤：通过曝光机对插入注记差量测图形的光掩模图档进行曝光，量测光掩模的注记差；其中，注记差量测图形作为量测点，量测的注记差为量测曝光前后的相对参考点之间的距离；修正参数补偿步骤：通过量测的注记差补偿曝光机的修正参数；修正曝光步骤：通过修正参数补偿后的曝光机对光掩模图档进行曝光，修正光掩模的注记差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广州新锐光掩模科技有限公司 光掩模注记差的修正方法及系统
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