龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：本公开提供了一种半导体设备的清洗方法及清洗系统，清洗方法包括：在第一预设条件下，使反应气体中的氟化氢与半导体设备的反应腔室内的ZrO2进行反应，生成固态ZrF4；抽出反应后反应腔室内的气体；在第二预设条件下，将固态ZrF4升华，以及抽出升华后的ZrF4气体。通过向半导体设备的反应腔室通入可以与ZrO2发生反应的反应气体，并将生成的固态ZrF4升华，以清洗反应腔室内部的ZrO2固体，该清洗方法可以避免对反应腔室内的零部件进行侵蚀，不会破坏零部件表面的粗糙度，提高半导体设备所生产的产品的良率；还降低了人为操作带来的误差风险，降低半导体设备清洗所需的时间成本和人力成本，提高了半导体设备清洗的工作效率，提高半导体设备的产能。
主权项：1.一种半导体设备的清洗方法，其特征在于，所述半导体设备的清洗方法用于半导体设备的反应腔室内ZrO2的清洗，包括：步骤S101，在第一预设条件下，使反应气体中的氟化氢与所述半导体设备的反应腔室内的ZrO2进行反应，生成固态ZrF4；步骤S102，抽出反应后所述反应腔室内的气体；步骤S103，在第二预设条件下，将所述固态ZrF4升华，以及抽出升华后的ZrF4气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 长鑫存储技术有限公司 半导体设备的清洗方法及清洗系统
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号