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一种喷淋头清洁装置及清洁方法 

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申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

摘要:本发明提供了一种喷淋头清洁装置,用于对反应炉内部的喷淋头进行清洁,所述喷淋头位于所述反应炉内的顶部,所述清洁装置包括:激光烧蚀组件,设置于所述反应炉,所述激光烧蚀组件包括输出单元,所述输出单元位于所述反应炉内部,且朝向所述喷淋头,用于去除所述喷淋头上的二硫化钼涂层;加热组件,与所述喷淋头连接,且设置于所述喷淋头上方,可对所述喷淋头加热;隔断组件,所述隔断组件包括设置于所述反应炉一侧的隔断插板。本发明通过激光烧蚀组件和加热组件的设置,可依次对反应炉的喷淋头进行高能激光烧蚀和加热蒸发,以此两步法清洁喷淋头上的二硫化钼涂层、大颗粒中间产物以及分解所吸附的钼硫相关小分子;实现喷淋头的深度清洁处理。并且,在清洁过程中,需配合隔断组件,通过控制隔断插板在反应炉的进入取出,阻止物料杂质对反应炉下方生长衬底的污染,保证良好的清洁效果。

主权项:1.一种喷淋头清洁装置,其特征在于,用于对反应炉内部的喷淋头进行清洁,所述喷淋头位于所述反应炉内的顶部,所述清洁装置包括:激光烧蚀组件,设置于所述反应炉,所述激光烧蚀组件包括输出单元,所述输出单元位于所述反应炉内部,且朝向所述喷淋头,用于去除所述喷淋头上的二硫化钼涂层;加热组件,与所述喷淋头连接,且设置于所述喷淋头上方,可对所述喷淋头加热;隔断组件,所述隔断组件包括设置于所述反应炉一侧的隔断插板,所述隔断插板可移动插入所述反应炉内部,将所述反应炉分隔为两部分,以及移动从所述反应炉内移出。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种喷淋头清洁装置及清洁方法

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