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申请/专利权人：北京晶亦精微科技股份有限公司
摘要：本发明涉及化学机械研磨工艺领域，公开了一种研磨终点检测系统和检测方法；研磨终点检测系统包括光源、第一反射镜、第二反射镜、升降机构、光强检测器及处理模块；光源用于发出光束，第一反射镜、第二反射镜均用于将光束经反射作用反射至光强检测器；升降机构用于搭载并控制第一反射镜和第二反射镜上升或下降；光强检测器用于在升降机构上升和下降后接收光束并转换为第一光强信号和第二光强信号；处理模块用于采集第一光强信号和第二光强信号，还用于根据第二光强信号校准第一光强信号，以及使用校准后的第一光强信号对基板的研磨终点进行检测。本发明的研磨终点检测系统检测到的光强信号稳定，检测结果精准。
主权项：1.一种研磨终点检测系统，其特征在于，包括：光源1，用于发射光束；第一反射镜2，设置于所述光源的一侧，用于将所述光束反射至基板7，所述基板7用于将所述光束反射至第二反射镜3；所述第二反射镜3，设置于所述第一反射镜2的一侧，用于将所述基板7反射出的光束反射至光强检测器5；升降机构4，所述第一反射镜2和所述第二反射镜3固定于所述升降机构4上；所述升降机构4用于沿第一预设方向下降，以使所述光源1发射的光束发射至光强检测器5；所述升降机构4还用于沿第二预设方向上升，以使所述光源1发射的光束经过所述第一反射镜2、所述基板7及所述第二反射镜3反射至所述光强检测器5；所述光强检测器5，用于在升降机构4处于上升之后的状态下将光信号转换为第一光强信号，还用于在升降机构4处于下降之后的状态下将光信号转换为第二光强信号；处理模块6，与所述光强检测器5连接；所述处理模块6用于采集所述第一光强信号和所述第二光强信号，还用于根据所述第二光强信号对所述第一光强信号进行校准，以及用于根据校准后的第一光强信号对所述基板7的研磨终点进行检测。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京晶亦精微科技股份有限公司 一种研磨终点检测系统和检测方法
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