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申请/专利权人：深圳光感半导体有限公司
摘要：本申请提供一种零维材料滤光结构的制备方法及零维材料滤光结构。零维材料滤光结构的制备方法包括：获取基片，基片的表面设有多个光学通道区域，多个光学通道区域与零维材料滤光结构的多个光学通道一一对应；在基片的表面沉积零维材料，零维材料包括至少一种元素的单质和或至少一种元素的化合物，不同光学通道区域处的沉积次数不同，以在多个光学通道区域处形成不同厚度的滤光结构，滤光结构的厚度在0.1nm到100nm之间。本申请的零维材料滤光结构的制备方法，可以有效的降低零维材料滤光结构的厚度，简化了滤光结构的加工过程，提高了生产效率。
主权项：1.一种零维材料滤光结构的制备方法，用于零维材料滤光结构的制备，其特征在于，包括：获取基片，所述基片的表面设有多个光学通道区域，多个所述光学通道区域与所述零维材料滤光结构的多个光学通道一一对应；在所述基片的表面沉积零维材料，所述零维材料包括至少一种元素的单质和或至少一种元素的化合物，不同所述光学通道区域处的沉积次数不同，以在多个所述光学通道区域处形成不同厚度的滤光结构，所述滤光结构的厚度在0.1nm到100nm之间。
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权利要求：
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