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申请/专利权人：亮锐有限责任公司
摘要：本发明描述了一种制造波长转换像素阵列结构1的方法，该方法包括下列步骤：形成光刻胶块10阵列，其中光刻胶块（10）由间隙（G）隔开，并且其中光刻胶块（10）在光刻胶块（10）阵列中的位置对应于发光二极管（20）在发光二极管阵列（2）中的位置；用填料材料填充每个光刻胶块（10）周围的间隙（G）以形成栅格（11）；去除光刻胶块10以暴露栅格G中的空腔C阵列；以及用波长转换材料填充由栅格（G）的壁限定的每个空腔（C）以形成波长转换像素阵列结构（1）的波长转换像素（12），其中，波长转换像素阵列结构（1）制备于晶片（5）中形成的凹槽（50）中。本发明还描述了一种制造发光器件3的方法。
主权项：1.一种制造波长转换像素阵列结构1的方法，所述方法包括下列步骤：-形成光刻胶块10阵列，其中所述光刻胶块10由间隙G隔开，并且其中光刻胶块10的位置对应于发光二极管20在发光二极管阵列2中的位置；-用填料材料填充每个光刻胶块10周围的间隙G以形成栅格11；-去除光刻胶块10以暴露栅格G中的空腔C阵列；以及-用波长转换材料填充由栅格G的壁限定的每个空腔C以形成波长转换像素阵列结构1的波长转换像素12，波长转换像素阵列结构1制备于晶片5中形成的凹槽50中，并且填充光刻胶块10周围的间隙G的步骤包括将液态前体填料材料11F分配到凹槽50中的步骤。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 亮锐有限责任公司 制造波长转换像素阵列结构的方法
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