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申请/专利权人:亮锐有限责任公司
摘要:本发明描述了一种制造波长转换像素阵列结构1的方法,该方法包括下列步骤:形成光刻胶块10阵列,其中光刻胶块(10)由间隙(G)隔开,并且其中光刻胶块(10)在光刻胶块(10)阵列中的位置对应于发光二极管(20)在发光二极管阵列(2)中的位置;用填料材料填充每个光刻胶块(10)周围的间隙(G)以形成栅格(11);去除光刻胶块10以暴露栅格G中的空腔C阵列;以及用波长转换材料填充由栅格(G)的壁限定的每个空腔(C)以形成波长转换像素阵列结构(1)的波长转换像素(12),其中,波长转换像素阵列结构(1)制备于晶片(5)中形成的凹槽(50)中。本发明还描述了一种制造发光器件3的方法。
主权项:1.一种制造波长转换像素阵列结构1的方法,所述方法包括下列步骤:-形成光刻胶块10阵列,其中所述光刻胶块10由间隙G隔开,并且其中光刻胶块10的位置对应于发光二极管20在发光二极管阵列2中的位置;-用填料材料填充每个光刻胶块10周围的间隙G以形成栅格11;-去除光刻胶块10以暴露栅格G中的空腔C阵列;以及-用波长转换材料填充由栅格G的壁限定的每个空腔C以形成波长转换像素阵列结构1的波长转换像素12,波长转换像素阵列结构1制备于晶片5中形成的凹槽50中,并且填充光刻胶块10周围的间隙G的步骤包括将液态前体填料材料11F分配到凹槽50中的步骤。
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权利要求:
百度查询: 亮锐有限责任公司 制造波长转换像素阵列结构的方法
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