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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：用于确定光刻设备的聚焦误差和或第一量测数据与第二量测数据之间的差异的设备和方法。所述第一量测数据和或所述第二量测数据包括与衬底相关的参数的多个值，所述衬底包括多个场，所述多个场包括器件拓扑。设备可以包括处理器，处理器被配置为执行计算机程序代码以执行方法：确定所述参数的场内分量；从所述第一量测数据移除所确定的所述场内分量，以获得所述第一量测数据的场间分量；以及基于所述场间分量和所述第二量测数据，确定所述第一量测数据与第二量测数据之间的所述差异。
主权项：1.一种用于确定包括与衬底相关的参数的多个值的第一量测数据和第二量测数据之间的差异的设备，所述衬底包括多个场，所述多个场包括器件拓扑，所述设备包括处理器，所述处理器被配置为执行计算机程序代码以执行方法：确定所述参数的场内分量；从所述第一量测数据移除所确定的所述场内分量，以获得所述第一量测数据的场间分量；以及基于所述场间分量和所述第二量测数据，确定所述第一量测数据与第二量测数据之间的所述差异。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 量测中的不可校正误差
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