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申请/专利权人：武汉科技大学
摘要：本发明属于电镜试样制备与检测技术领域，具体涉及一种超低碳无取向硅钢薄片EBSD样品及其制备和检测方法。该制备方法包括以下步骤：1获取超低碳无取向硅钢薄片试样，并去除表面污物；2依次用目数逐渐增加的碳化硅砂纸，分别沿单一方向对试样表面进行研磨，其中，任意相邻两次研磨的研磨方向相互垂直，形成金属镜面，研磨后对试样表面进行冲洗和干燥；3对试样表面进行电解抛光；4电解抛光后立即进行冲洗和干燥，得到超低碳无取向硅钢薄片EBSD样品。本发明首次提供了适用于超低碳无取向硅钢薄片EBSD样品的制备方法，该方法制备出来的EBSD试样可以观察到高质量的菊池花样图像，并且标定率高达90％以上。
主权项：1.一种超低碳无取向硅钢薄片EBSD样品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1获取超低碳无取向硅钢薄片试样，并去除表面污物；2依次用目数逐渐增加的碳化硅砂纸，分别沿单一方向对试样表面进行研磨，其中，任意相邻两次研磨的研磨方向相互垂直，形成金属镜面，研磨后对试样表面进行冲洗和干燥；3对试样表面进行电解抛光；4电解抛光后立即进行冲洗和干燥，得到超低碳无取向硅钢薄片EBSD样品。
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百度查询： 武汉科技大学 超低碳无取向硅钢薄片EBSD样品及其制备和检测方法
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