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申请/专利权人：湘潭大学

摘要：本发明涉及一种基于电弧传感的GTAW过程磁控熔滴过渡频率控制方法。针对GTAW过程中熔滴过渡频率难以监测且不能实现自动控制的难题，本发明公开了一种基于电弧传感的GTAW过程磁控熔滴过渡频率控制方法。利用基于电弧传感的熔滴过渡监测方法监测熔滴过渡，利用基准磁场标定方法标定基准磁场，利用熔滴过渡频率磁场控制方法控制熔滴过渡频率。

主权项：1.一种基于电弧传感的GTAW过程磁控熔滴过渡频率控制方法，用于GTAW过程熔滴过渡频率自动控制，其特征在于：所述的基于电弧传感的GTAW过程熔滴过渡频率控制方法通过基于电弧传感的GTAW过程熔滴过渡频率控制系统实现熔滴过渡频率自动控制；利用基于电弧传感的熔滴过渡监测方法监测熔滴过渡，利用基准磁场标定方法标定基准磁场，利用熔滴过渡频率磁场控制方法控制熔滴过渡频率；所述的基准磁场是焊接开始前用于调整电弧角度并使电弧处于垂直于工件平面状态的轴向磁场，该磁场垂直于工件平面向上，使电弧被压缩，其对应的励磁电流称为基准磁场标定励磁电流；所述的基准磁场标定方法通过电弧巡回法实现，用于标定基准磁场；所述的电弧巡回法过程为：基准磁场标定前，电弧以倾斜于工件平面的姿态EK出现，首先左右电磁线圈不通电流，向前后电磁线圈通入电流产生同向的轴向磁场，使电弧沿HI左右摆动，在摆动过程中传感器获得对应的电弧电压Vt，最小电弧电压Vtmin对应电弧左右摆动过程中与工件距离最近的时刻，即电弧轴线摆动至线段EJ时刻，此时的磁场即为前后磁头的基准磁场，相应的前后电磁线圈内基准磁场标定励磁电流分别为AF、AB，随后停止向前后电磁线圈，再在左右两个电磁线圈中施行同样的步骤，找到电弧前后摆动过程中电弧电压最小时对应的电弧轴线位置为线段EO，线段EO垂直于面ABCD，即电弧垂直于工件平面，相应的左右电磁线圈内基准磁场励磁电流分别为AL、AR；四个电磁线圈在这一过程中所确定的相应的励磁电流即为产生基准磁场的基准磁场标定励磁电流，完成基准磁场的标定；所述的基准磁场励磁电流由磁控电源系统产生，用于控制四个电磁线圈产生基准磁场；焊接过程中的励磁电流变化以基准磁场标定励磁电流为基准电流；所述的熔滴过渡频率磁场控制方法，控制电磁线圈中通入的电流波形，利用四个电磁线圈产生的磁场，对焊接处的熔滴进行控制；在焊接过程中通过比较监测到的熔滴过渡频率和设定熔滴过渡频率，调整励磁线圈中励磁电流的幅值和频率，以调整磁场的变化频率从而实现熔滴过渡频率调节。

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