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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本文中描述的实施方式提供减小被写入到光刻胶中的部分的宽度的大面积光刻的方法。所述方法的一个实施方式包括在最小波长下将多个光束的初始光束投射到在所述多个光束的传播方向中的掩模。所述掩模具有多个色散元件。增加所述多个光束的各光束的波长直到所述多个光束的最后光束在最大波长下被投射。所述掩模的多个色散元件将所述多个光束衍射成阶模束以在位于所述掩模与上面设置有光刻胶层的衬底之间的介质中产生强度图案。具有多个强度顶点的所述强度图案将多个部分写入所述光刻胶层中。
主权项：1.一种方法，包括：将多个光束的第一光束投射到在所述多个光束的传播方向中的掩模，所述第一光束具有以下各者之一的第一偏振：横向电TE偏振；横向磁TM偏振；和部分偏振；将所述多个光束的第二光束投射到所述掩模，所述第二光束具有不同于所述第一偏振的第二偏振，所述第二偏振是以下各者中的一个：所述TE偏振；所述TM偏振；和所述部分偏振；将所述多个光束的额外光束投射到所述掩模，所述额外光束具有不同于所述第一偏振或所述第二偏振的一者的第三偏振，所述第三偏振是以下各者中的一个：所述TE偏振；所述TM偏振；和所述部分偏振；且其中所述掩模的多个色散元件将所述多个光束衍射成阶模束以在位于所述掩模与上面设置有光刻胶层的衬底之间的介质中产生强度图案，具有多个强度顶点的所述强度图案将多个部分写入所述光刻胶层中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 基于宽带光源的大面积自成像光刻
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