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申请/专利权人：HOYA株式会社
摘要：本发明提供在图案的转印时能够形成有利形状的抗蚀剂图案且显示出优异的转印性的光掩模、光掩模的制造方法、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法。光掩模在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案。上述转印用图案包含在上述透明基板上形成有相移膜的相移部、和上述透明基板露出的透光部。设上述相移膜具有的、对于g线的相移量度为对于h线的相移量度为对于i线的相移量度为时，则满足且这些中，最接近180度的值为
主权项：1.一种光掩模的设计方法，其为在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案的光掩模的设计方法，并且是用于在被转印体上形成孔图案的显示装置制造用的光掩模的设计方法，该设计方法的特征在于，所述光掩模用于利用在两个以上的波长中具有强度峰值的曝光光将所述转印用图案转印至被转印体上，所述转印用图案包含孔径为4μm以下的孤立孔图案，该孤立孔图案由在所述透明基板上形成有相移膜的相移部、和所述透明基板露出的透光部构成，设所述两个以上的波长中处于最长波长侧的光的波长为α、所述两个以上波长中处于比α短的波长侧的波长为β，所述波长β为i线，设该波长α中的所述相移膜的相移量为φα、所述波长β中的所述相移膜的相移量为φβ时，则满足φβφα、以及190φβ230，所述相移膜的相移量的单位均为度，并且，选择所述相移膜的物性和膜厚，使得所述φα与180度的差小于所述φβ与180度的差。
全文数据：
权利要求：
百度查询： HOYA株式会社 光掩模、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法
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