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申请/专利权人：上村工业株式会社
摘要：本发明涉及化学镀浴，公开了一种使用无卤素的化学镀浴的微小垫的制备方法，本发明的无卤素的化学镀浴即使在镀浴中不含有氯化物等卤化物也具有镀膜性优异的特性。本发明的微小垫的制备方法为200μm×200μm以下的微小垫的制备方法，微小垫在基体侧上依次构成基底金属层、Pt层或Pd层，Pt层或Pd层使用含有水溶性铂化合物或水溶性钯化合物、和还原剂的化学镀浴而形成，水溶性铂化合物为四氨合铂II络盐，但是，除去所述四氨合铂II络盐的卤化物，水溶性钯化合物为四氨合钯II络盐，但是，除去所述四氨合钯II络盐的卤化物和硫酸四氨钯II，还原剂为甲酸或其盐，化学镀浴作为添加剂不含有卤化物。
主权项：1.一种微小垫的制备方法，其为200μm×200μm以下的微小垫的制备方法，所述微小垫在基体侧上依次构成基底金属层、Pt层或Pd层，所述Pt层或所述Pd层使用含有水溶性铂化合物或水溶性钯化合物、和还原剂的化学镀浴而形成，所述水溶性铂化合物为四氨合铂II络盐，但是，除去所述四氨合铂II络盐的卤化物，所述水溶性钯化合物为四氨合钯II络盐，但是，除去所述四氨合钯II络盐的卤化物和硫酸四氨钯II，所述还原剂为甲酸或其盐，所述化学镀浴作为添加剂不含有卤化物。
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