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申请/专利权人:上海康碳复合材料科技有限公司;上海康碳创达新材料科技有限公司
摘要:本发明涉及类金刚石薄膜技术领域,提供了一种耐冲击渐变层类金刚石薄膜及其制备方法。本发明以碳钯为靶材,采用磁控溅射法在基体表面制备类金刚石薄膜,并利用基体偏压的大小来调节膜层的软硬度,发明人发现,随着基体偏压的降低,溅射所得膜层的硬度逐渐升高,利用这一原理,本发明在磁控溅射镀膜过程中将基体偏压设置为渐变模式,从而实现膜层由软到硬的渐变,其中软层能起到缓冲作用,从而提高薄膜的耐冲击性;同时,本发明制备的类金刚石薄膜与基体具有优异的结合能力。实施例结果表明,本发明制备的耐冲击渐变层类金刚石薄膜与基体的结合力达到90N,用洛氏硬度计定性测试结合力,显示薄膜的结合力为一级。
主权项:1.一种耐冲击渐变层类金刚石薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:对基体进行磁控溅射镀膜,得到耐冲击渐变层类金刚石薄膜;所述磁控溅射镀膜采用的靶材为碳靶;所述磁控溅射镀膜在Ar气氛中进行;所述磁控溅射镀膜过程中基体偏压为渐变模式,先从1000V渐变到100V,在100V下维持0.9~1.1h,然后再从100V渐变为1000V。
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