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申请/专利权人：佛山纳诺特科技有限公司
摘要：本公开属于电磁屏蔽材料技术领域，提供了一种透明电磁屏蔽膜及其制备方法。屏蔽膜包括自下而上依次设置的第一屏蔽层、第一增透层、基底层、第二增透层、第二屏蔽层；第一屏蔽层和第二屏蔽层为设置有相同网格化图案的金属层，且两屏蔽层的网格化图案相对于基底层的位置完全相同。制备方法：在基底层的两面沉积第一增透层和第二增透层；在两增透层背离基底层的一侧分别沉积第一金属层和第二金属层；在两金属层背离其相邻增透层的一侧分别涂布光刻胶，曝光两光刻胶，形成完全对准的第一网格化图案和第二网格化图案，完成第一屏蔽层和第二屏蔽层的制备。本公开的屏蔽膜结构简单，使用了双面对准的金属网格，可同时提升其屏蔽效能和透光率。
主权项：1.一种透明电磁屏蔽膜，其特征在于，包括自下而上依次设置的第一屏蔽层、第一增透层、基底层、第二增透层、第二屏蔽层；所述第一屏蔽层和所述第二屏蔽层为设置有网格化图案的金属层，所述第一屏蔽层和所述第二屏蔽层的所述网格化图案相同，且相对于所述基底层的位置完全相同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 佛山纳诺特科技有限公司 一种透明电磁屏蔽膜及其制备方法
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