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粒子束治疗系统及其扩充方法 

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申请/专利权人:株式会社日立高新技术

摘要:本发明提供提高了扩充性的粒子束治疗系统。粒子束治疗系统1具备:具有第一楼层51和第二楼层53S、53V的建筑物;设于第一楼层并产生粒子束的粒子束产生装置2;用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束的第一输送系统31;以及从第一输送系统分支并用于经由第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束的第二输送系统32,第二输送系统具有使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转的第一偏转电磁铁322,建筑物5具有屏蔽第一楼层与第二楼层的屏蔽壁55,在相对于粒子束的前进方向比第一偏转电磁铁靠后方的位置贯通屏蔽壁地设置第二输送系统。

主权项:1.一种粒子束治疗系统,具备:建筑物,其具有第一楼层和第二楼层;粒子束产生装置,其设置于上述第一楼层,上述粒子束产生装置被配置为产生粒子束;第一输送系统,其被配置为从上述粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射系统输送粒子束;以及第二输送系统,其被配置为将从上述第一输送系统分支的粒子束经由上述第二楼层输送至第二治疗室内的第二照射系统,其中,上述第二输送系统具有第一偏转电磁铁,该第一偏转电磁铁被配置为使粒子束向上述第二楼层的方向偏转,上述第二楼层具有与上述粒子束产生装置的设置面处于不同高度的表面,其中,上述建筑物具有屏蔽上述第一楼层与上述第二楼层的屏蔽壁,其中,上述第二输送系统在相对于粒子束的前进方向比上述第一偏转电磁铁靠后方的位置贯通上述屏蔽壁,其中,在上述第二输送系统的中途且在粒子束的前进方向上的上述屏蔽壁的后侧设有屏蔽机构,其中,上述第二输送系统由上述屏蔽机构遮断,其中,上述第二输送系统在预定时期连接到上述第二治疗室中的上述第二照射系统,并且其中,上述屏蔽机构在上述第二输送系统的内部保持为真空后打开,并且其中,在向上述第二治疗室输送粒子束并开始利用之前,除去上述屏蔽壁的至少一部分。

全文数据:

权利要求:

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