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申请/专利权人：生物辐射实验室股份有限公司
摘要：本文公开了用于利用照射对支架进行接触成像的系统和方法。一种接触成像系统可包括接触成像器。接触成像器可包括具有基部和盖的壳体。盖可具有抵靠基部的闭合位置和打开位置。接触成像器可包括接触区域图像传感器。当盖处于闭合位置时，盖可遮蔽接触区域图像传感器以免受环境光的影响。接触成像器可包括照射器，当盖处于闭合位置时，该照射器可照射接触区域图像传感器上的印迹的至少一部分。
主权项：1.一种接触成像系统，所述接触成像系统包括：接触成像器，所述接触成像器包括：壳体，所述壳体具有基部和盖，所述盖具有抵靠所述基部的闭合位置并且具有打开位置；以及接触区域图像传感器，所述接触区域图像传感器位于所述基部中，其中当所述盖处于所述闭合位置时，所述盖遮蔽所述接触区域图像传感器以免受环境光的影响；以及照射器，所述照射器被配置成当所述盖处于所述闭合位置时照射所述接触区域图像传感器上的印迹的至少一部分。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 生物辐射实验室股份有限公司 利用照射对标准品进行接触成像
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