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实时、非侵入式IEDF等离子体传感器 

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申请/专利权人:MKS仪器有限公司

摘要:用于等离子体产生系统的控制器包括模型评估模块,该模型评估模块接收依照由RF发电机控制的等离子体的状态而变化的感测值。模型评估模块生成依照该感测值而变化的等离子体参数。模型集成模块接收等离子体参数,集成该等离子体参数,并且输出集成模型参数。IEDF评估模块接收集成模型参数,并且依照集成模型参数来生成离子能量分布函数IEDF。IEDF控制器模块接收IEDF,并且生成用于控制RF产生器的信号。RF产生器控制模块接收该信号,并且生成RF产生器控制信号,以控制该RF发电机的功率、频率和相位中的至少一个。

主权项:1.一种用于等离子体产生系统的控制器,包括:模型评估模块,被配置为接收依照由RF发电机控制的等离子体的状态而变化的感测值,所述模型评估模块生成等离子体参数,其中所述等离子体参数依照所述感测值而变化;模型集成模块,被配置为接收所述等离子体参数,并且被配置为集成所述等离子体参数并输出集成模型参数;IEDF评估模块,被配置为接收所述集成模型参数,并且依照所述集成模型参数来生成离子能量分布函数IEDF;IEDF控制器模块,被配置为接收所述IEDF,并且生成用于控制RF产生器的信号;以及RF产生器控制模块,被配置为接收所述信号,并且生成RF产生器控制信号以控制所述RF发电机的功率、频率和相位中的至少一个。

全文数据:

权利要求:

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