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申请/专利权人：浙江新唐实业有限公司
摘要：本申请公开了一种镀膜设备及其镀膜方法，镀膜设备包括蚀刻腔室，蚀刻腔室包括用于对工件的表面进行加工的等离子源及带有门阀的蚀刻入口和带有传输阀的蚀刻出口；涂层腔室，包括用于对工件蚀刻加工后的表面进行溅射的溅射阴极及带有传输阀的涂层入口和带有门阀的涂层出口，蚀刻出口与涂层入口相连；传送机构，设置于所述蚀刻腔室和所述涂层腔室内，用于将蚀刻腔室内加工后的工件运输至涂层腔室；真空装置，与蚀刻腔室和或涂层腔室连接，用于使蚀刻腔室和涂层腔室内形成真空；其中，蚀刻出口和涂层入口之间密封连接，以使镀膜设备在工作状态下，蚀刻腔室和涂层腔室处于同一真空状态。本申请镀膜设备及镀膜方法，镀膜生产效率高。
主权项：1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：蚀刻腔室1，用以提升工件100表面的粘附性能，所述蚀刻腔室1包括用于对工件100的表面进行加工的等离子体源及带有门阀的蚀刻入口11和带有传输阀的蚀刻出口；涂层腔室3，用以在工件100表面形成沉积层，所述涂层腔室3包括用于对工件100蚀刻加工后的表面进行溅射的溅射阴极及带有传输阀的涂层入口和带有门阀的涂层出口37，所述蚀刻出口与所述涂层入口相连；传送机构，至少部分设置于所述蚀刻腔室1和或所述涂层腔室3内，用于将所述蚀刻腔室1内加工后的工件100运输至所述涂层腔室3；真空装置，与所述蚀刻腔室1和或所述涂层腔室3连接，用于使所述蚀刻腔室1和所述涂层腔室3中至少一者内形成真空；其中，所述蚀刻出口和所述涂层入口之间密封连接，以使所述镀膜设备在工作状态下，所述蚀刻腔室1和所述涂层腔室3处于同一真空状态。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江新唐实业有限公司 一种镀膜设备及其镀膜方法
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