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申请/专利权人：中润新能源(徐州)有限公司
摘要：本发明公开了一种具有抗UV衰减效应的TOPCon电池正面膜层及制备方法，属于电池制备技术领域，本发明通过原子层沉积技术ALD，采用H2O作为前驱体源分两阶段反应，得到‑OH基团含量递减的叠层氧化铝膜层；随后在正面叠层氧化铝膜层上增加一层氮氧化硅薄膜，之后再生长氮化硅、氮氧化硅等钝化膜层；叠层结构可更大化的降低氧化铝的界面态密度及保护钝化膜层；同时增加氮氧化硅膜层及升温工艺，提高了膜层在UV照射后对H离子的阻挡能力，促进了氧化铝膜层晶化，提高其有效厚度，进而提高了其化学钝化及场钝化的作用，从而降低了TOPCon电池的UV衰减效应，完善了抗UV衰减的可靠性措施，弥补了单一增加ALD反应周期工艺的高效率损失。
主权项：1.一种具有抗UV衰减效应的TOPCon电池正面膜层，其特征在于，所述正面膜层结构从下至上分别为叠层氧化铝膜层、生长于叠层氧化铝膜层上的氮氧化硅薄膜以及钝化膜层；所述叠层氧化铝膜层包括上层氧化铝膜层和下层氧化铝膜层，从所述下层氧化铝膜层到上层氧化铝膜层的-OH基团含量递减。
全文数据：
权利要求：
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