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投射镜头、投射曝光装置以及投射曝光方法 

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申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司

摘要:一种折射投射镜头PO,其通过工作波长在超过280nm的紫外线范围中的电磁辐射将配置在投射镜头的物平面OS中的图案成像到投射镜头的像平面IS中,所述折射投射镜头包含多个透镜元件,这些透镜元件沿光轴OA配置在物平面OS和像平面IS之间,并且实施为使得布置在物平面中的图案能够利用透镜元件成像到像平面中,其中光阑平面BE适于附接孔径光阑AS,光阑平面位于物平面和像平面之间,成像的主射线在光阑平面中与光轴OA相交。投射镜头设计为物场半径至少为52mm的大场透镜,并且具有成像比例为1:1且相对于光阑平面BE镜像对称的结构。

主权项:1.一种折射投射镜头PO,其通过工作波长在大于280nm的紫外线范围内的电磁辐射将配置在投射镜头的物平面OS中的图案成像到投射镜头的像平面IS,该折射投射镜头PO包含:多个透镜元件,所述透镜元件沿光轴OA配置在该物平面OS和该像平面IS之间,并且实施为使得配置在该物平面的图案PAT能够通过所述透镜元件成像到该像平面,其中一光阑平面BE适于附接位于该物平面和该像平面之间的孔径光阑AS,一成像主射线在该光阑平面中与该光轴OA相交;其特征在于:该投射镜头设计成物场半径OBH至少为52mm的大场透镜,并具有成像比例为1:1且相对于该光阑平面BE成镜像对称的结构。

全文数据:

权利要求:

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