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一种高致密性的氧化铟铈靶材及其制备方法 

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申请/专利权人:先导薄膜材料(广东)有限公司

摘要:本发明属于材料技术领域,公开了一种高致密性氧化铟铈靶材及其制备方法。所述制备方法为:将氧化铈粉末与第一分散剂和纯水进行预分散,经湿法研磨得到浆料一;向浆料一中加入氧化铟粉末和第二分散剂进行预分散,经湿法研磨得到浆料二;将浆料二进行喷雾造粒、混料和筛分,得到氧化铟铈前驱体;将氧化铟铈前驱体在600~800℃氧气氛围中常压烧结3~6h预处理,然后在真空环境下升温至烧结温度进行加压烧结,得到高致密性氧化铟铈靶材。本发明所得氧化铟铈靶材密度高、成分分布均匀性好,性能优异。

主权项:1.一种高致密性氧化铟铈靶材的制备方法,其特征在于,包括如下工艺步骤:S1.称取氧化铈粉末、氧化铟粉末备用;S2.将氧化铈粉末、第一分散剂和纯水倒入容器中进行预分散,分散均匀后经湿法研磨得到浆料一;S3.向浆料一中加入氧化铟粉末和第二分散剂进行预分散,分散均匀后经湿法研磨得到浆料二;S4.将浆料二进行喷雾造粒、混料和筛分,得到氧化铟铈前驱体;S5.对氧化铟铈前驱体进行预处理,所述预处理为在600~800℃氧气氛围中常压烧结3~6h;S6.将预处理后的氧化铟铈前驱体装入模具,放入烧结炉中,在真空环境下升温至烧结温度,再进行加压烧结,加压烧结后采用快冷装置以10~20℃min匀速降温至50℃,得到一种高致密性氧化铟铈靶材;S1步骤中所述氧化铈粉末与所述氧化铟粉末的质量比为0.1~2:98~99.9,所述氧化铈粉末的纯度为4N、粒径为120~270nm,所述氧化铟粉末的纯度为4N、粒径为120~270nm;S6步骤中所述升温至烧结温度为采用速热装置以5~15℃min匀速升温至1400~1550℃;所述加压烧结为在35~50MPa下进行保温保压6~10h。

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