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用于离子束辅助沉积镀膜装置的离子源调整装置 

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申请/专利权人:上海超导科技股份有限公司

摘要:本发明提供了一种离子束辅助沉积镀膜装置,包括:源系统:包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统,镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束,刻蚀系统包括离子源;真空系统:提供真空环境;走带系统:对带材进行收放卷;控制系统:在控制系统的作用下,所述走带系统进行收放卷,所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀。通过对前几道走带同时进行镀膜和刻蚀,且刻蚀速度大于镀膜速度,使净沉积速度很低,但由于高的刻蚀速度,在此沉积的氧化镁会形成极优的织构度,保证同根带材两端的织构度差别<10%,最终制备的超导带材,两端的临界电流差别小于10%,进而提高了镀膜效果。

主权项:1.一种用于离子束辅助沉积镀膜装置的离子源调整装置,其特征在于,包括:源系统:包括至少一组镀膜系统和至少一组刻蚀系统,所述镀膜系统包括离子源、蒸发源、激光源或电子束,所述刻蚀系统包括离子源;真空系统:提供真空环境;走带系统:对带材进行收放卷;控制系统:在控制系统的作用下,所述走带系统进行收放卷,所述镀膜系统对处于真空环境内的带材进行镀膜和或所述刻蚀系统对处于真空环境内的带材进行刻蚀;还包括离子源调整机构,所述离子源调整机构调整镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源的倾斜角度,所述离子源调整机构调整镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源在竖直方向上的高度;所述离子源调整机构包括长调整螺杆、短调整螺杆、第一固定座、第二固定座、第一调整螺母以及第二调整螺母;所述第一固定座允许长调整螺杆竖直穿入并沿长调整螺杆的长度方向转动移动,所述第一调整螺母螺纹连接在长调整螺杆上,所述第一调整螺母与第一固定座连接,所述第一固定座允许与镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源紧固连接的连接轴螺旋移动;所述第二固定座允许短调整螺杆竖直穿入并沿短调整螺杆的长度方向转动移动,所述第二调整螺母螺纹连接在短调整螺杆上,所述第二调整螺母与第二固定座连接,所述第二固定座允许与镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源紧固连接的连接轴螺旋移动;与所述镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源上侧紧固连接的连接轴与第一固定座连接,与所述镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源下侧紧固连接的连接轴与第二固定座连接;或,与所述镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源下侧紧固连接的连接轴与第一固定座连接,与所述镀膜系统离子源或刻蚀系统离子源上侧紧固连接的连接轴与第二固定座连接;所述镀膜系统发射的离子束包括聚焦束或平行束,所述刻蚀系统发射的离子束包括发散束或平行束;所述走带系统包括n道连续走带,n为带材的总道数;所述镀膜系统发出的离子束中心线与靶材的交点对应带材刻蚀镀膜区域的后二分之一n道带材区,形成带材镀膜区;所述刻蚀系统发出的离子束中心线与带材的交点位于带材刻蚀镀膜区域的前二分之一n道带材区,形成带材刻蚀区;所述走带系统还包括独立收放卷系统、编码计数器系统以及张力检测系统;所述独立收放卷系统包括通过轴和联轴器依次连接的电机、减速机、磁粉离合器、磁流体密封件以及带材盘,带材绕设带材盘;所述编码计数器系统包括通过轴和联轴器依次连接的编码器、磁流体密封件以及导轮,所述带材绕过导轮;所述张力检测系统包括通过轴连接的传感器和导轮,所述带材绕过导轮;带材被张紧在导轮上,且导轮沿带材宽度方向的中部呈弧形凸起。

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