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申请/专利权人:重庆大学;重庆平伟伏特集成电路封测应用产业研究院有限公司
摘要:本发明公开一种逆导型绝缘栅双极型晶体管,包括集电极接触层1、重掺杂第二导电类型集电极区10、重掺杂第一导电类型集电极区11、轻掺杂第二导电类型集电极区12、第一导电类型缓冲层20、轻掺杂第一导电类型漂移层21、第二导电类型基区30、重掺杂第二导电类型发射区31、重掺杂第一导电类型发射区32、重掺杂第一导电类型栅极区33、栅极绝缘介质层40、发射极接触层2、栅极接触层3;本发明采用较小的背面元胞尺寸抑制RC‑IGBT在正向导通时的折回snap‑back现象,提高可靠性并降低功率损耗,提升RC‑IGBT器件整体性能。
主权项:1.一种逆导型绝缘栅双极型晶体管,其特征在于:包括集电极接触层(1)、重掺杂第二导电类型集电极区(10)、重掺杂第一导电类型集电极区(11)、轻掺杂第二导电类型集电极区(12)、第一导电类型缓冲层(20)、轻掺杂第一导电类型漂移层(21)、第二导电类型基区(30)、重掺杂第二导电类型发射区(31)、重掺杂第一导电类型发射区(32)、重掺杂第一导电类型栅极区(33)、栅极绝缘介质层(40)、发射极接触层(2)、栅极接触层(3);所述重掺杂第一导电类型集电极区(11)覆盖于集电极金属层(1)部分区域之上;所述重掺杂第二导电类型集电极区(10)覆盖于集电极金属层(1)部分区域之上;所述轻掺杂第二导电类型集电极区(12)覆盖于重掺杂第二导电类型集电极区(10)之上;所述重掺杂第一导电类型集电极区(11)由多个重复单元构成;所述重掺杂第二导电类型集电极区(10)和轻掺杂第二导电类型集电极区(12)位于所述重掺杂第一导电类型集电极区(11)两个重复单元之间;所述第一导电类型缓冲层(20)部分位于重掺杂第一导电类型集电极区(11)之上,并浮于轻掺杂第一导电类型漂移层(21)之中;第一导电类型缓冲层(20)与重掺杂第一导电类型集电极区(11)的上表面接触。
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