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一种超薄复合铜箔的制备方法及超薄复合铜箔 

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申请/专利权人:安徽立光电子材料股份有限公司

摘要:本发明公开了一种超薄复合铜箔的制备方法及超薄复合铜箔,包括柔性基底膜层、多晶硅膜层、铜膜层,在耐高温基材一侧表面上涂覆柔性基底膜层,在柔性基底膜层上镀覆非晶硅膜层,激光辐照使非晶硅膜层晶化为多晶硅膜层,在多晶硅膜层上镀覆铜膜层,形成一种复合膜层结构。激光辐照下,柔性基底膜层自基材上剥离,制得一种超薄复合铜箔。这种超薄复合铜箔具有良好的弯曲性能和导电性能,膜层均匀,且膜层之间结合力大,膜层结构紧密,不容易分离。

主权项:1.一种超薄复合铜箔的制备方法,包括柔性基底膜层、多晶硅膜层、铜膜层,其特征在于,包括以下步骤:(1)在基材上涂覆所述柔性基底膜层;(2)在所述柔性基底膜层上方采用气相沉积法镀覆非晶硅膜层,使用激光辐照将非晶硅膜层升温至1000℃以上,然后退火,形成所述多晶硅膜层,激光的能量密度为800~980Jcm2,辐照时间小于2s,非晶硅膜层的氢稀释率大于90%;(3)在所述多晶硅膜层上方镀覆铜膜层;(4)激光辐照于所述柔性基底膜层,使所述柔性基底膜层与所述基材剥离。

全文数据:

权利要求:

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