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化学机械抛光设备 

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申请/专利权人:江苏元夫半导体科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种化学机械抛光设备,化学机械抛光设备包括:前置单元、抛光单元、清洗单元和转运单元。前置单元包括存储模块和第一转运模块;转运单元包括动子,动子能够自由移动,动子用于将晶圆由第一转运模块转运至抛光单元、由抛光单元转运至清洗单元,第一转运模块用于将晶圆由存储模块转运至动子,由清洗单元转运至前置单元。根据本实用新型的化学机械抛光设备,化学机械抛光设备可以实现晶圆的自由转运和高效处理,兼具生产效率高、适配性强、可优化生产工艺及生产成本等优点。

主权项:1.一种化学机械抛光设备,其特征在于,包括:前置单元,所述前置单元包括存储模块和第一转运模块;抛光单元和清洗单元;转运单元,所述转运单元包括动子,所述动子能够自由移动,所述动子用于将晶圆由所述第一转运模块转运至所述抛光单元、由所述抛光单元转运至所述清洗单元,所述第一转运模块用于将所述晶圆由所述存储模块转运至所述动子,由所述清洗单元转运至所述前置单元。

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权利要求:

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