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申请/专利权人：苏州新维度微纳科技有限公司
摘要：本发明公开了一种纳米压印模板及降低纳米压印脱模缺陷的方法，通过在模板本体表面的第一区域边缘设置第二区域，第二区域可以设置在第一区域在第一方向的后方，也可以设置在第一区域在第一方向的上方和下方，也可以同时设置在第一区域在第一方向的上方、下方以及后方（第一区域为有效图形区域，第二区域为无效图形区域），减缓第一区域边缘脱模力的突变，从而降低第一区域内第一微纳结构的脱模缺陷，解决纳米压印中脱模导致的缺陷问题。
主权项：1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：模板本体，所述模板本体表面形成有第一区域和第二区域，所述第一区域内设置有用于纳米压印的第一微纳结构，所述第二区域内设置有第二微纳结构；所述第二区域位于所述第一区域在第一方向上的后方，且所述第二区域贴合所述第一区域设置；和或，所述第二区域位于所述第一区域在第一方向的上方和下方，所述第二区域在第二方向上与所述第一区域部分重叠或完全重叠且所述第二区域在第一方向上超出所述第一区域的设置；所述第一方向为所述模板本体的脱模方向，所述第二方向为垂直于模板本体脱模方向的方向。
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权利要求：
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