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申请/专利权人：南京原磊纳米材料有限公司

摘要：本发明涉及半导体设备技术领域，具体公开了一种多片式防绕镀自动取放腔机构，包括：反应腔组，反应腔组包括反应腔外箱体，载具组包括若干组载具盘，载具组的一侧设置有机械爪组；还包括提升驱动组，提升驱动组包括驱动器和提升杆；本发明通过设置的提升驱动组的提升杆上下运动和机械爪组自动抓取基体材料相互配合，能够实现自动放置和拿取基体材料的效果，时间短，效率高；通过设置的遮挡组件能够对提升通孔进行遮挡，避免提升通孔暴漏导致原子沉积反应时基体材料底面靠近提升通孔的位置有原子沉积附着；通过设置的驱动件，能够带动辅助限位挡杆进行移动，便于基体材料准确移动至放置槽的内部，有利于原子沉积反应使用。

主权项：1.一种多片式防绕镀自动取放腔机构，其特征在于，包括：反应腔组10，所述反应腔组10包括反应腔外箱体11，所述反应腔外箱体11的内部设有加热器，所述反应腔外箱体11的一侧开设有进口，所述反应腔外箱体11的另一侧通过导向驱动组30连接有反应腔外箱门12，所述反应腔外箱门12靠近所述反应腔外箱体11的一侧设置有载具组20，所述载具组20包括若干组载具盘21，若干组所述载具盘21连接在所述反应腔外箱门12的一侧，若干组所述载具盘21的上端均开设有用于放置基体材料的放置槽，所述载具组20的一侧设置有机械爪组，能够抓取基体材料并将其放置于提升杆41上端；还包括提升驱动组40，所述提升驱动组40位于所述载具组20的下方，所述提升驱动组40包括驱动器和提升杆41，所述驱动器的输出端连接有所述提升杆41，所述载具盘21上开设有与所述提升杆41相配合的提升通孔22；所述反应腔外箱体11的内部设有内腔体，所述内腔体的内部设置有隔热屏，所述隔热屏采用隔热陶瓷制成；相邻两组所述载具盘21之间的间距相等，所述提升通孔22设置为四组，每两组分别位于所述载具盘21的前后两侧，所述提升通孔22的一部分贯穿所述放置槽；所述提升杆41的上端靠近所述放置槽的一侧开设有凹槽，所述凹槽的一面设置为直面，所述凹槽的直面与所述放置槽的边沿处于同一竖直面；所述导向驱动组30包括驱动元件31和导向轴32，所述反应腔外箱体11靠近所述反应腔外箱门12一侧的边角位置均安装有所述驱动元件31，所述驱动元件31的输出端连接有所述导向轴32，所述导向轴32的一端与所述反应腔外箱门12的边角位置连接；所述提升通孔22的内部设置有遮挡组件23,所述遮挡组件23包括连接座24和莲花挡片25，所述提升通孔22的内部通过螺栓安装有所述连接座24，所述连接座24的内部开设有通孔，所述连接座24的上端设置有若干组所述莲花挡片25，若干组所述莲花挡片25以所述提升通孔22的中轴线为圆心成阵列设置，若干组所述莲花挡片25均具有形变能力，若干组所述莲花挡片25的顶端均与所述提升通孔22的顶端齐平。

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