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申请/专利权人：长喆电(苏州)半导体技术有限公司
摘要：本发明公开了一种晶圆兆声波清洗机构及其使用方法，涉及清洗机构技术领域，包括清理机构，所述清理机构上部放置有放料机构，所述清理机构包括物料输送带和供气组件，所述物料输送带上部固定连接有兆声波喷淋清洗组件。本发明中，通过兆声波喷淋清洗喷头对晶圆进行清洗，通过物料输送带将清洗完成的晶圆移动至兆声波喷淋漂洗组件下方，通过兆声波喷淋漂洗喷头对晶圆进行漂洗，最后，再由物料输送带分别将晶圆移动至风刀切水组件、烘干组件和冷却组件下方，分别对晶圆进行风刀切水、烘干和冷却，通过将晶圆的清洗工序进行整合，可以提升对晶圆进行清洗加工时的效率，缩短清洗时间。
主权项：1.一种晶圆兆声波清洗机构，包括壳体1，包括清理机构1，所述清理机构1上部放置有放料机构2，其特征在于：所述清理机构1包括物料输送带11和供气组件17，所述物料输送带11上部固定连接有兆声波喷淋清洗组件12，所述兆声波喷淋清洗组件12一侧设置有兆声波喷淋漂洗组件13，所述兆声波喷淋漂洗组件13与物料输送带11固定连接，所述兆声波喷淋漂洗组件13一侧设置有风刀切水组件14，所述风刀切水组件14与物料输送带11固定连接，所述风刀切水组件14一侧设置有烘干组件15，所述烘干组件15一侧设置有冷却组件16，所述冷却组件16与物料输送带11固定连接，所述供气组件17分别与风刀切水组件14、烘干组件15和冷却组件16固定连接；所述放料机构2用于将待清洗的晶圆进行限位，使其稳定的放置在放料机构2上部，所述物料输送带11用于对放料机构2上部放置的晶圆进行位置移动，将其准确的移动至兆声波喷淋清洗组件12、兆声波喷淋漂洗组件13、风刀切水组件14、烘干组件15和冷却组件16的下方，所述兆声波喷淋清洗组件12用于对晶圆进行清洗，所述兆声波喷淋漂洗组件13用于对晶圆进行漂洗，所述风刀切水组件14用于对晶圆和放料机构2表面的水进行初步吹干，所述烘干组件15用于对晶圆和放料机构2表面进行烘干，所述冷却组件16用于对晶圆进行冷却，所述供气组件17用于对风刀切水组件14、烘干组件15和冷却组件16提供气源。
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