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一种高双面率的TOPCon电池片及生产方法 

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申请/专利权人:正奇光能科技有限公司

摘要:本发明公开了一种高双面率的TOPCon电池片及生产方法,为行业首创,需要对目前的工艺流程进行调整,在扩散掺杂工序之后增加选择性刻蚀工序,而后再正常进行绕镀及PSG去除。理论上该生产流程有望提升双面率至84‑87%以上,同时提升电池片转换效率0.07%以上。能在印刷区域保留较厚的磷掺杂poly‑Si层,保证钝化效果,提升转换效率;在非印刷区域形成较薄的磷掺杂poly‑Si层,保证双面率提升,做到两者的兼顾。

主权项:1.一种高双面率的TOPCon电池片生产方法,其特征在于,包括S100:选择性刻蚀;步骤如下:S101涂胶:将电池片的n-poly-Sipoly-Si层朝下,采用水膜覆盖的方式在电池片n-poly-Sipoly-Si层下表面均匀涂抹光刻胶;S102曝光:电池片涂上光刻胶涂层后,移至曝光机下进行曝光,曝光机出光镜头采用掩模板遮挡,使得栅线印刷区域不接受UV光照射,其他区域接受UV光照射,光刻胶会发生聚合反应;S103显影:曝光后的电池片,同样采用水膜覆盖的方式在电池片n-poly-Si层下表面均匀涂抹显影液,显影液与曝光后的光刻胶涂层进行化学反应,去掉硅片边缘的光刻胶涂层;S104干刻:经反应离子刻蚀机刻蚀n-poly-Si层下表面的非栅线印刷区域;S105去光阻:经过刻蚀或者离子注入之后,使用有机溶剂将光刻胶从硅片的表面除去。

全文数据:

权利要求:

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