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压力调节装置和排胶炉 

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申请/专利权人:拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司

摘要:本申请涉及排胶技术领域,尤其涉及一种压力调节装置和排胶炉,以解决泄压装置设置在工艺腔室上,导致净化腔室泄压迟缓,可能会引起净化腔室爆裂等安全隐患的问题。通过第一压力传感器检测净化腔室内的第一压力,中心控制器接收第一压力传感器检测到的第一压力,阀门组件控制净化腔室与外界连通或隔离,使得净化腔室可以直接泄压,缩短了净化腔室的泄压时间。当第一压力传感器检测到净化腔室内的第一压力小于第一预设压力时,中心控制器控制阀门组件打开,使净化腔室与外界连通,使得净化腔室得到及时泄压,避免了因泄压迟缓引起净化腔室爆裂等安全隐患的发生,提高了排胶炉的安全性,有利于安全生产。

主权项:1.一种压力调节装置,其特征在于,应用于排胶炉,所述排胶炉包括工艺腔室、净化腔室和抽气装置,所述工艺腔室内在排胶过程中产生污染气体,所述净化腔室被配置为接收所述污染气体并对所述污染气体进行净化,得到净化气体,所述抽气装置与所述净化腔室连通,并被配置为将所述净化气体排出;其中,所述压力调节装置包括:第一压力传感器,与所述净化腔室连接,被配置为检测所述净化腔室内的第一压力;中心控制器,与所述第一压力传感器通信连接,并接收所述第一压力;阀门组件,与所述中心控制器通信连接,被配置为使所述净化腔室与外界连通或隔离;其中,响应于所述第一压力小于第一预设压力,所述中心控制器控制所述阀门组件打开,以使所述净化腔室与外界连通。

全文数据:

权利要求:

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