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申请/专利权人：苏州华新达饮品技术有限公司

摘要：本发明公开了一种超纯水制备用反渗透处理工艺，涉及水净化技术领域，旨在解决现有超纯水制备用反渗透处理装置功能较为单一的技术问题，该方法基于一种超纯水制备用反渗透装置来实现，该超纯水制备用反渗透装置包括设备基架，本发明通过在连通管输出端连接反渗透过滤机构，通过膜调节件使得反渗透过滤机构具有两种反渗透处理方式，膜调节件运动形成闭合状态时，用于半导体制造中需要超纯水纯度高流量需求不大的处理情况，膜调节件运动形成往复展开与闭合状态时，用于清洗、冷却等工艺中需要超纯水纯度不高流量需求大的处理情况，两种处理方式为电子工业超纯水的应用提供了高效、可靠的水处理解决方案，有利于电子工业水处理领域新进程。

主权项：1.一种超纯水制备用反渗透处理工艺，其特征在于，所述方法基于一种超纯水制备用反渗透装置来实现，所述超纯水制备用反渗透装置包括设备基架（1），所述设备基架（1）上设有进水管（2），所述进水管（2）上设有开关阀体（10），所述进水管（2）输出端连接有活性炭过滤机构（3），所述活性炭过滤机构（3）输出端连接有连通管（4），所述连通管（4）上连接有加压泵（9），所述连通管（4）输出端连接有若干反渗透过滤机构（5），所述反渗透过滤机构（5）输出端连接有出水管（6），所述反渗透过滤机构（5）外壁上还连接有排污管（7）；所述反渗透过滤机构（5）包括反渗透膜壳（501）、进水端盖（502）、出水端盖（503）、中心管（504）、膜调节件（505）、一级RO膜（506）及二级RO膜（507），所述反渗透膜壳（501）一端连接于所述连通管（4）输出端，所述反渗透膜壳（501）另一端连接于所述出水管（6）输入端，所述进水端盖（502）设于所述反渗透膜壳（501）输入端，所述出水端盖（503）设于所述反渗透膜壳（501）输出端，所述中心管（504）设于所述反渗透膜壳（501）内部，所述中心管（504）一端连接于所述进水端盖（502）上，所述中心管（504）另一端连接于所述出水端盖（503）上，所述膜调节件（505）设于所述反渗透膜壳（501）靠近所述进水端盖（502）一端，所述一级RO膜（506）设于所述膜调节件（505）上，所述二级RO膜（507）设于所述反渗透膜壳（501）内部靠近中心管（504）外侧的位置；所述反渗透膜壳（501）底端靠近所述出水端盖（503）上方的位置还设有清污机构（8）；所述反渗透处理工艺，包括以下步骤：S1、预处理操作；打开开关阀体（10）使得水源通过进水管（2）输入至活性炭过滤机构（3）进行大颗粒预过滤处理，预过滤处理后通过连通管（4）输送至反渗透过滤机构（5）；S2、反渗透膜调节操作；S2.1、根据需要制备的超纯水用途选择合适的反渗透处理方式，若应用于半导体制造中需要超纯水纯度高流量需求不大时，通过外部驱动组件驱动膜调节件（505）运动形成闭合状态；S2.2、根据需要制备的超纯水用途选择合适的反渗透处理方式，若应用于清洗、冷却等工艺中需要超纯水纯度不高流量需求大时，通过外部驱动组件驱动膜调节件（505）运动形成往复展开与闭合状态；S3、反渗透处理操作；预过滤处理后通过连通管（4）输送进的水源通过进水端盖（502）经过膜调节件（505）顶端流入反渗透膜壳（501）内部，若为应用于半导体制造中需要超纯水纯度高流量需求不大时，加压泵（9）做功使得水源通过膜调节件（505）上的一级RO膜（506）渗透至一级RO膜（506）内部实现一级过滤，加压泵（9）再次做功使得水源通过二级RO膜（507）渗透至中心管（504），水源通过中心管（504）通过出水端盖（503）流至出水管（6）实现排出；若为应用于清洗、冷却等工艺中需要超纯水纯度不高流量需求大时，由于膜调节件（505）运动形成往复展开与闭合状态，部分水源则从膜调节件（505）展开时所产生的间隙中流入二级RO膜（507）外侧，实现部分一层过滤，提升超纯水制备流量；S4、维护与保养操作；部分污物粘连在一级RO膜（506）及二级RO膜（507）上，驱动清污机构（8）做功对一级RO膜（506）及二级RO膜（507）上粘连的污物进行旋转清扫，阻隔的污水及污物通过排污管（7）排出。

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