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申请/专利权人：之江实验室;浙江大学
摘要：本发明公开了一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶按质量份数计，包括以下组分：1‑3份聚羟基苯乙烯化合物，1‑7份活性交联剂，0.2‑0.5份双光子引发剂，0‑0.5份增敏剂，0～90份溶剂。本发明提供的基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶具有良好的成膜性，利用飞秒激光直写光刻系统，可以刻写出满足微纳加工需求的光刻胶线条，具有良好的精度，在微纳电子器件、集成电路和显示面板等半导体制造领域内有巨大的应用前景。
主权项：1.一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶，其特征在于：所述基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶按质量份数计，包括以下组分：1-3份聚羟基苯乙烯化合物，1-7份活性交联剂，0.2-0.5份双光子引发剂，0-0.5份增敏剂，0～90份溶剂；所述聚羟基苯乙烯化合物A的结构式如下式I示： 式I中，m和n为15000至2000的自然数，R1为R2选自下列基团之一：
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百度查询： 之江实验室 浙江大学 一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法
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