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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本申请公开了一种工艺腔室、半导体处理设备及承载平台校准方法，工艺腔室包括腔室本体，以及至少一个设置于所述腔室本体内的工艺位，每个所述工艺位包括可活动地与所述腔室本体连接的承载平台，以及设置于所述承载平台的正上方的喷淋组件，所述工艺腔室还包括：至少一个第一测距模块，设置于所述喷淋组件上，用于测量自身至所述承载平台上的晶圆之间的第一距离；第一驱动源，与所述承载平台连接，用于根据所述第一距离，驱动所述承载平台做升降运动。本申请可以实时对Gap值进行校准，保证不同批次或不同工位上晶圆之间的膜厚一致性。
主权项：1.一种工艺腔室，包括腔室本体，以及至少一个设置于所述腔室本体内的工艺位，每个所述工艺位包括可活动地与所述腔室本体连接的承载平台，以及设置于所述承载平台的正上方的喷淋组件，其特征在于，所述工艺腔室还包括：至少一个第一测距模块，设置于所述喷淋组件上，用于测量自身至所述承载平台上的晶圆之间的第一距离；第一驱动源，与所述承载平台连接，用于根据所述第一距离，驱动所述承载平台做升降运动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 一种工艺腔室、半导体处理设备及承载平台校准方法
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